搪瓷反應罐是將含(han)高(gao)二(er)氧化(hua)硅(gui)的(de)玻(bo)璃，襯在鋼(gang)制(zhi)容器的(de)內表面，經(jing)高(gao)溫灼燒而牢固(gu)地密著(zhu)于金屬表面上(shang)成為復合(he)材(cai)料(liao)制(zhi)品(pin)。所以，是一種優(you)良的(de)耐腐蝕設備。

搪(tang)瓷反應罐技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對各(ge)種有機酸(suan)、無機酸(suan)、有機溶(rong)劑均(jun)有較好的(de)(de)抗蝕性。如將我廠生產的(de)(de)搪(tang)玻璃試樣置(zhi)于20%HCI溶(rong)液中煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優(you)等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃(li)對(dui)堿性溶液(ye)抗蝕(shi)性較(jiao)酸(suan)溶液(ye)差。但(dan)將(jiang)我廠搪玻(bo)璃(li)試樣置(zhi)于1N氫氧化(hua)鈉溶液(ye)腐(fu)蝕(shi)，試驗溫(wen)度(du)80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)速(su)率為6.76g/m2.d（優(you)等品(pin)指(zhi)標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反應罐(guan)的(de)瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜附件的(de)瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具有良好的絕緣性，當搪玻璃在(zai)規定(ding)厚度內用20KV高頻電火花檢查瓷層時，高頻電火花不(bu)能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪瓷反應罐的玻璃層內(nei)應力越小(xiao)，彈性越好，硬(ying)度(du)越大(da)，抗彎抗壓強度(du)越高，則耐沖(chong)擊就越好。我廠之玻璃層在規(gui)定厚(hou)度(du)內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼(gang)球沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適(shi)用于石油化工、橡膠、農藥、染料(liao)、醫(yi)藥等行業，用以完成磺(huang)化、硝化、氫化、烴化、聚合、縮(suo)合等工藝過程。

搪瓷反應釜(fu)工作溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)較高，通常(chang)化(hua)學反應需要在一(yi)定的(de)(de)溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)條(tiao)件下才(cai)能(neng)進行(xing)，所(suo)以反應釜(fu)既承受壓力又承受溫(wen)(wen)度(du)(du)(du)。獲得高溫(wen)(wen)的(de)(de)方法通常(chang)有以下幾種(zhong)：

1、水加溫

要(yao)求(qiu)溫度(du)不高時(shi)可采用，其(qi)加熱系統有(you)敞(chang)開(kai)式(shi)和密閉(bi)式(shi)兩種。敞(chang)開(kai)式(shi)較簡單，它(ta)由循環(huan)泵(beng)、水(shui)槽、管(guan)道及(ji)控制閥門的調節器(qi)所組成(cheng)，當采用高壓水(shui)時(shi)，設備機械強度(du)要(yao)求(qiu)高，反應釜(fu)外表面焊上(shang)蛇(she)管(guan)，蛇(she)管(guan)與釜(fu)壁(bi)有(you)間隙，使熱阻(zu)增加，傳(chuan)熱效果降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱溫(wen)度在100℃以(yi)下時，可(ke)用(yong)一個大氣壓以(yi)下的(de)蒸汽來加(jia)熱；100~180℃范(fan)圍內，用(yong)飽(bao)和蒸汽；當溫(wen)度更高時，可(ke)采用(yong)高壓過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求(qiu)必(bi)須在高(gao)溫(wen)下(xia)操(cao)作或欲避免采用高(gao)壓的加熱系統時(shi)，可用其它介質來代替水和(he)蒸汽(qi)，如礦(kuang)物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態(tai)鉛（熔點327℃）等(deng)。

4、電加熱

將電阻絲纏繞在反(fan)應(ying)(ying)釜(fu)筒(tong)體的(de)(de)絕緣層上，或(huo)安(an)裝在離反(fan)應(ying)(ying)釜(fu)若干距(ju)離的(de)(de)特設絕緣體上，因此，在電阻絲與反(fan)應(ying)(ying)釜(fu)體之間形(xing)成(cheng)了不大的(de)(de)空間間隙。

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