搪玻璃反應罐是(shi)將含高二氧化硅的玻璃，襯在鋼制(zhi)容(rong)器的內表面(mian)，經(jing)高溫灼燒而(er)牢固地密著于金屬表面(mian)上成(cheng)為復合材料制(zhi)品。所(suo)以(yi)，是(shi)一種優良的耐腐蝕設備。

搪玻璃反應(ying)罐技術規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有(you)機(ji)溶劑均有(you)較好的抗(kang)蝕性(xing)。如將(jiang)我廠(chang)生產的搪玻璃試(shi)樣置于20%HCI溶液中煮(zhu)沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃(li)對堿性(xing)溶(rong)液(ye)抗蝕(shi)性(xing)較酸溶(rong)液(ye)差。但將我(wo)廠搪玻(bo)璃(li)試(shi)樣置于(yu)1N氫氧化鈉溶(rong)液(ye)腐蝕(shi)，試(shi)驗溫(wen)度80℃時間48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品(pin)指(zhi)標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用(yong)溫度為0－200℃，耐(nai)溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃(li)反應釜附(fu)件的(de)瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具有良好的絕緣性，當搪玻(bo)璃在規定(ding)厚度內(nei)用20KV高(gao)頻電(dian)火花檢查(cha)瓷(ci)層時，高(gao)頻電(dian)火花不能擊穿(chuan)瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃(li)反應(ying)罐(guan)的玻璃(li)層內應(ying)力(li)越小，彈性越好，硬度(du)越大，抗(kang)彎抗(kang)壓強(qiang)度(du)越高，則耐沖(chong)擊(ji)(ji)就越好。我廠之玻璃(li)層在規定(ding)厚(hou)度(du)內，用直徑30mm，重量(liang)112g鋼(gang)球(qiu)沖(chong)擊(ji)(ji)時，其沖(chong)擊(ji)(ji)功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷(ci)反應釜適用(yong)于石油化(hua)工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業，用(yong)以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合(he)、縮合(he)等工藝過(guo)程。

搪瓷反(fan)應(ying)釜(fu)工作溫(wen)度(du)(du)較高，通常化(hua)學反(fan)應(ying)需要在一定的(de)溫(wen)度(du)(du)條件(jian)下(xia)才能進(jin)行，所以反(fan)應(ying)釜(fu)既承受壓力又承受溫(wen)度(du)(du)。獲得高溫(wen)的(de)方法通常有以下(xia)幾(ji)種：

1、水加溫

要求(qiu)溫度不(bu)高(gao)時(shi)可采用，其加(jia)熱系統有(you)敞(chang)開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞(chang)開式(shi)較簡單，它由循環(huan)泵(beng)、水(shui)槽、管道及控制閥門的調節器(qi)所組成(cheng)，當采用高(gao)壓水(shui)時(shi)，設備機械強度要求(qiu)高(gao)，反(fan)應釜外表(biao)面(mian)焊上蛇管，蛇管與釜壁有(you)間隙(xi)，使熱阻增加(jia)，傳熱效果降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加熱溫(wen)度(du)在(zai)100℃以下時，可用(yong)一個大氣壓以下的蒸(zheng)汽來加熱；100~180℃范(fan)圍內，用(yong)飽和蒸(zheng)汽；當溫(wen)度(du)更高時，可采用(yong)高壓過熱蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要(yao)求必須在高溫下操作或欲避免采用高壓(ya)的加熱(re)系統時(shi)，可用其它(ta)介質來(lai)代替水和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯(ben)醚混合劑（沸(fei)點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲纏繞在(zai)(zai)反(fan)應釜(fu)筒體的(de)絕緣層上，或(huo)安(an)裝(zhuang)在(zai)(zai)離(li)反(fan)應釜(fu)若(ruo)干(gan)距離(li)的(de)特設絕緣體上，因此，在(zai)(zai)電阻絲與反(fan)應釜(fu)體之間形成(cheng)了不大(da)的(de)空間間隙。

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