山(shan)東搪(tang)聯(lian)化工設備有限(xian)公(gong)司
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工廠地址:淄博市淄川區董瓦村
搪瓷反應罐是將含高二氧化硅的玻(bo)璃,襯在(zai)鋼制(zhi)容器的內(nei)表(biao)面,經高溫灼燒而牢固地密著于金屬(shu)表(biao)面上成為復(fu)合材料制(zhi)品。所以,是一種(zhong)優良(liang)的耐(nai)腐蝕設備。
搪瓷反應罐技(ji)術規(gui)范(fan):
1、耐酸性:
對各種有(you)機(ji)(ji)酸、無機(ji)(ji)酸、有(you)機(ji)(ji)溶劑均有(you)較好的抗蝕(shi)性。如將我廠生(sheng)產的搪(tang)玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮沸48h,腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d(優等品指標為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻璃對堿性溶(rong)液(ye)抗蝕(shi)(shi)性較酸溶(rong)液(ye)差(cha)。但(dan)將我(wo)廠搪玻璃試(shi)樣置于1N氫氧化鈉溶(rong)液(ye)腐蝕(shi)(shi),試(shi)驗溫度80℃時間48h。腐蝕(shi)(shi)速率為(wei)6.76g/m2.d(優等品指標為(wei)7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為(wei)0-200℃,耐溫(wen)急變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
搪瓷(ci)反(fan)(fan)應罐的瓷(ci)層厚(hou)度0.8-2.0mm,搪玻璃反(fan)(fan)應釜附(fu)件的瓷(ci)層厚(hou)度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻璃具有(you)良好的絕緣性,當搪玻璃在規(gui)定厚度內用20KV高頻電火花檢查瓷(ci)層時,高頻電火花不能擊穿瓷(ci)層。
6、耐沖擊性:
搪瓷反(fan)應(ying)罐的玻璃層(ceng)內(nei)應(ying)力越(yue)小,彈性越(yue)好(hao),硬度越(yue)大,抗彎抗壓強(qiang)度越(yue)高(gao),則耐(nai)沖擊(ji)就(jiu)越(yue)好(hao)。我廠之玻璃層(ceng)在規定厚度內(nei),用直徑30mm,重量112g鋼(gang)球沖擊(ji)時,其沖擊(ji)功(gong)為282×10-3J(優等品指標為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪(tang)瓷(ci)反(fan)應釜適用于石油化工、橡膠(jiao)、農藥(yao)、染料(liao)、醫(yi)藥(yao)等行業(ye),用以(yi)完成磺化、硝(xiao)化、氫(qing)化、烴化、聚合(he)、縮合(he)等工藝過程。
搪(tang)瓷反應(ying)釜工(gong)作溫度(du)較高,通(tong)常化學反應(ying)需要在(zai)一(yi)定的溫度(du)條件下才能進行,所以反應(ying)釜既承(cheng)(cheng)受壓力又承(cheng)(cheng)受溫度(du)。獲得高溫的方法通(tong)常有以下幾種:
1、水加溫
要求溫度不(bu)高(gao)時可采(cai)用,其加熱系統有敞開式和(he)密(mi)閉式兩種。敞開式較簡單(dan),它由循環泵、水槽、管道(dao)及控制(zhi)閥門(men)的調(diao)節器所組成,當采(cai)用高(gao)壓水時,設(she)備(bei)機械強度要求高(gao),反(fan)應釜(fu)(fu)外表面焊(han)上(shang)蛇管,蛇管與(yu)釜(fu)(fu)壁有間隙,使(shi)熱阻增加,傳熱效(xiao)果降低。
2、蒸汽加熱
加(jia)熱溫度在100℃以(yi)下(xia)時,可用(yong)一個大氣壓(ya)以(yi)下(xia)的蒸汽(qi)(qi)來加(jia)熱;100~180℃范圍內,用(yong)飽和蒸汽(qi)(qi);當溫度更(geng)高(gao)時,可采用(yong)高(gao)壓(ya)過熱蒸汽(qi)(qi)。
3、用其它介質加熱
若(ruo)工藝要求必須在高(gao)(gao)溫下操作或欲(yu)避(bi)免采用高(gao)(gao)壓的加熱系統時,可用其它介質(zhi)來代(dai)替水和(he)蒸汽,如礦物油(you)(275~300℃)、聯苯醚混(hun)合劑(ji)(沸點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態鉛(熔點327℃)等。
4、電加熱
將電阻絲(si)纏繞(rao)在反(fan)應釜(fu)筒體(ti)的(de)(de)絕緣層上,或(huo)安裝(zhuang)在離反(fan)應釜(fu)若(ruo)干距離的(de)(de)特設絕緣體(ti)上,因此(ci),在電阻絲(si)與反(fan)應釜(fu)體(ti)之間形成了不大的(de)(de)空間間隙。
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