山(shan)東搪聯(lian)化工(gong)設備(bei)有限公司
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搪瓷反應釜是(shi)將含(han)高(gao)二氧化硅的玻(bo)璃,襯在(zai)鋼制(zhi)容器的內表面,經高(gao)溫灼(zhuo)燒(shao)而牢固(gu)地密著于金屬表面上成為復合(he)材料制(zhi)品。所(suo)以,是(shi)一種優良的耐(nai)腐蝕設備。
搪瓷反應釜技術規范:
1、耐酸性:
對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶(rong)劑均有(you)較好的(de)抗蝕性。如(ru)將(jiang)我廠生產的(de)搪玻璃試樣(yang)置于20%HCI溶(rong)液(ye)中(zhong)煮沸48h,腐(fu)蝕速率為(wei)(wei)0.9lg/m2.d(優(you)等(deng)品指標為(wei)(wei)1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻(bo)璃(li)對堿性溶(rong)(rong)液(ye)抗蝕性較酸溶(rong)(rong)液(ye)差(cha)。但將我廠搪玻(bo)璃(li)試樣置于1N氫氧化鈉(na)溶(rong)(rong)液(ye)腐(fu)蝕,試驗溫度80℃時(shi)間48h。腐(fu)蝕速率(lv)為6.76g/m2.d(優等品指標(biao)為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度(du)為0-200℃,耐溫(wen)急(ji)變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
搪瓷(ci)反(fan)應(ying)釜(fu)的(de)瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm,搪玻璃反(fan)應(ying)釜(fu)附件的(de)瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻璃具有(you)良好的絕緣性,當搪玻璃在規定厚度內用20KV高頻電(dian)火花檢查(cha)瓷層時(shi),高頻電(dian)火花不能擊(ji)穿瓷層。
6、耐沖擊性:
搪玻璃反應(ying)釜的玻璃層內(nei)應(ying)力越小(xiao),彈性越好,硬度(du)(du)越大,抗彎(wan)抗壓(ya)強度(du)(du)越高,則耐沖擊就越好。我廠之玻璃層在規(gui)定厚度(du)(du)內(nei),用直徑30mm,重量112g鋼(gang)球沖擊時(shi),其沖擊功為282×10-3J(優(you)等品(pin)指(zhi)標為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷反(fan)應釜適(shi)用于(yu)石油(you)化(hua)工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業(ye),用以完(wan)成磺(huang)化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮(suo)合等工藝過程。
搪瓷反應(ying)釜工(gong)作(zuo)溫(wen)度較高,通常(chang)化學反應(ying)需要(yao)在(zai)一定的溫(wen)度條件下才(cai)能進行,所以反應(ying)釜既承(cheng)受(shou)壓(ya)力又承(cheng)受(shou)溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方(fang)法(fa)通常(chang)有以下幾(ji)種:
1、水加溫
要(yao)求(qiu)溫度(du)不高時(shi)可采(cai)用,其(qi)加熱系(xi)統(tong)有敞(chang)開式和密閉式兩種。敞(chang)開式較(jiao)簡單,它由循(xun)環泵、水(shui)槽、管道(dao)及控制閥門的(de)調(diao)節器所組成,當采(cai)用高壓水(shui)時(shi),設備機械強(qiang)度(du)要(yao)求(qiu)高,反應釜外表(biao)面焊上(shang)蛇管,蛇管與釜壁(bi)有間隙,使熱阻增(zeng)加,傳熱效(xiao)果降低。
2、蒸汽加熱
加熱溫度在(zai)100℃以(yi)下時(shi),可用一(yi)個大(da)氣壓以(yi)下的(de)蒸汽來加熱;100~180℃范圍內(nei),用飽和蒸汽;當(dang)溫度更(geng)高時(shi),可采用高壓過(guo)熱蒸汽。
3、用其它介質加熱
若工藝要求必須在高溫下操作或欲避(bi)免采用高壓的加(jia)熱(re)系統時,可用其它介質來(lai)代替(ti)水和蒸汽,如(ru)礦(kuang)物油(you)(275~300℃)、聯苯醚混(hun)合(he)劑(沸點(dian)258℃)、熔(rong)(rong)鹽(140~540℃)、液態鉛(熔(rong)(rong)點(dian)327℃)等。
4、電加熱
將電(dian)阻絲(si)纏繞在(zai)反(fan)(fan)應釜(fu)筒(tong)體的絕緣層上,或安(an)裝在(zai)離(li)(li)反(fan)(fan)應釜(fu)若(ruo)干距離(li)(li)的特設絕緣體上,因此,在(zai)電(dian)阻絲(si)與反(fan)(fan)應釜(fu)體之間形成了不大的空(kong)間間隙(xi)。
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