搪玻璃反應罐是將含(han)高二氧化(hua)硅的(de)玻璃，襯在鋼(gang)制容器(qi)的(de)內(nei)表面(mian)，經高溫灼燒而(er)牢固地密著于金屬(shu)表面(mian)上成(cheng)為復合材料(liao)制品。所(suo)以(yi)，是一種優良的(de)耐腐(fu)蝕設備。

搪玻璃反應(ying)罐技術(shu)規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)(you)機酸、無機酸、有(you)(you)機溶劑(ji)均有(you)(you)較好(hao)的抗蝕(shi)性。如將(jiang)我廠(chang)生產的搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮(zhu)沸48h，腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿(jian)性(xing)溶(rong)液抗(kang)蝕(shi)性(xing)較(jiao)酸溶(rong)液差。但將我廠搪玻璃試(shi)樣置于1N氫氧(yang)化鈉溶(rong)液腐(fu)蝕(shi)，試(shi)驗溫度80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜附件的瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃(li)(li)具有良好(hao)的絕緣(yuan)性(xing)，當搪玻(bo)璃(li)(li)在規定厚(hou)度內用20KV高頻(pin)電火花檢查瓷層(ceng)時，高頻(pin)電火花不能擊(ji)穿(chuan)瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪(tang)玻(bo)璃反應罐的玻(bo)璃層內(nei)應力越(yue)小(xiao)，彈性(xing)越(yue)好，硬度越(yue)大(da)，抗彎抗壓強度越(yue)高，則耐(nai)沖(chong)(chong)擊(ji)(ji)就(jiu)越(yue)好。我廠之玻(bo)璃層在規定(ding)厚(hou)度內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)(chong)擊(ji)(ji)時，其(qi)沖(chong)(chong)擊(ji)(ji)功為(wei)282×10-3J（優等(deng)品指(zhi)標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適用于石油化(hua)工、橡膠、農藥(yao)、染(ran)料、醫藥(yao)等行業，用以完成(cheng)磺化(hua)、硝(xiao)化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚(ju)合、縮合等工藝過程。

搪瓷反(fan)(fan)應釜(fu)(fu)工作溫(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)較高(gao)，通(tong)常(chang)化學(xue)反(fan)(fan)應需要在一定(ding)的溫(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)條件下(xia)才能進行，所以反(fan)(fan)應釜(fu)(fu)既承受壓力又(you)承受溫(wen)(wen)(wen)(wen)度(du)。獲得高(gao)溫(wen)(wen)(wen)(wen)的方法通(tong)常(chang)有以下(xia)幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時可采(cai)用(yong)，其加熱系統有敞開式和密閉式兩種。敞開式較簡(jian)單(dan)，它由循環泵、水槽、管道及控制(zhi)閥(fa)門的調節器(qi)所組(zu)成(cheng)，當采(cai)用(yong)高壓(ya)水時，設備機械強度要求高，反應釜外(wai)表面焊上蛇管，蛇管與釜壁有間隙，使(shi)熱阻增加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫度在100℃以下時，可用一個大氣(qi)壓(ya)以下的蒸(zheng)汽來(lai)加(jia)熱(re)；100~180℃范圍內，用飽(bao)和蒸(zheng)汽；當(dang)溫度更高時，可采(cai)用高壓(ya)過熱(re)蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝(yi)要求必(bi)須在(zai)高溫(wen)下操(cao)作(zuo)或欲避免(mian)采用(yong)高壓的加熱系統時，可(ke)用(yong)其它(ta)介質來代替水和蒸汽，如礦(kuang)物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏繞在(zai)反應釜(fu)筒體(ti)的(de)絕緣(yuan)層上(shang)，或安裝在(zai)離反應釜(fu)若干距離的(de)特設(she)絕緣(yuan)體(ti)上(shang)，因(yin)此，在(zai)電(dian)阻絲與(yu)反應釜(fu)體(ti)之間(jian)形成了不大(da)的(de)空間(jian)間(jian)隙。

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