山東搪聯化工設備(bei)有限(xian)公司
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搪瓷反應釜是將含高(gao)二(er)氧化(hua)硅的玻(bo)璃,襯在鋼制容器的內表面,經高(gao)溫灼燒而牢固(gu)地密著于(yu)金(jin)屬表面上成為復合材料(liao)制品。所以,是一種優良的耐腐蝕設(she)備。
搪瓷反應(ying)釜技(ji)術規范:
1、耐酸性:
對(dui)各種有(you)(you)(you)機酸、無機酸、有(you)(you)(you)機溶(rong)(rong)劑均有(you)(you)(you)較好的抗蝕(shi)性。如將我廠生產(chan)的搪玻璃試樣置于20%HCI溶(rong)(rong)液中煮沸48h,腐蝕(shi)速率為(wei)0.9lg/m2.d(優等品指(zhi)標(biao)為(wei)1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻(bo)璃對堿性溶(rong)(rong)液(ye)抗蝕性較酸溶(rong)(rong)液(ye)差。但將我廠(chang)搪玻(bo)璃試樣置于(yu)1N氫(qing)氧化鈉溶(rong)(rong)液(ye)腐蝕,試驗(yan)溫度(du)80℃時間48h。腐蝕速率為6.76g/m2.d(優等品指標為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度(du)為0-200℃,耐溫急變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
搪瓷(ci)反應釜的瓷(ci)層厚(hou)度0.8-2.0mm,搪玻璃(li)反應釜附件(jian)的瓷(ci)層厚(hou)度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻璃(li)(li)具有良好(hao)的絕緣性,當(dang)搪玻璃(li)(li)在(zai)規定(ding)厚度內用20KV高頻電火花(hua)檢查瓷(ci)層時,高頻電火花(hua)不能擊穿瓷(ci)層。
6、耐沖擊性:
搪玻璃(li)反(fan)應釜的玻璃(li)層內應力越小,彈性(xing)越好,硬度(du)越大,抗彎抗壓強度(du)越高,則耐沖(chong)擊就(jiu)越好。我(wo)廠之玻璃(li)層在規(gui)定厚度(du)內,用(yong)直徑30mm,重量112g鋼球沖(chong)擊時(shi),其沖(chong)擊功為282×10-3J(優等品指標為260×10-3J)。
搪瓷反應(ying)(ying)釜應(ying)(ying)用(yong)領域:
搪瓷反應釜適用于石油化(hua)(hua)工、橡膠、農藥、染料、醫藥等行業,用以完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴(jing)化(hua)(hua)、聚合、縮合等工藝(yi)過程。
搪瓷反應釜工作溫度較高,通(tong)常(chang)(chang)化學反應需要在一定的溫度條件下才能(neng)進行,所(suo)以(yi)反應釜既(ji)承(cheng)受壓(ya)力又承(cheng)受溫度。獲得高溫的方法通(tong)常(chang)(chang)有以(yi)下幾種:
1、水加溫
要(yao)求溫度(du)不高(gao)時可采(cai)用,其(qi)加(jia)熱(re)(re)系統有(you)敞開(kai)式和密閉式兩種。敞開(kai)式較(jiao)簡單,它由循環泵(beng)、水槽(cao)、管(guan)道及控制閥門的調節器所(suo)組成(cheng),當采(cai)用高(gao)壓水時,設(she)備機械強度(du)要(yao)求高(gao),反(fan)應釜外表(biao)面焊上蛇(she)(she)管(guan),蛇(she)(she)管(guan)與(yu)釜壁有(you)間隙(xi),使熱(re)(re)阻增加(jia),傳(chuan)熱(re)(re)效果降低。
2、蒸汽加熱
加熱溫度(du)在100℃以下(xia)時,可(ke)用一個大氣壓以下(xia)的蒸汽(qi)來(lai)加熱;100~180℃范圍(wei)內,用飽和蒸汽(qi);當溫度(du)更(geng)高時,可(ke)采用高壓過熱蒸汽(qi)。
3、用其它介質加熱
若(ruo)工藝要(yao)求必須在高溫下操(cao)作或欲避免采(cai)用(yong)高壓的加熱(re)系統(tong)時,可用(yong)其(qi)它介質(zhi)來代(dai)替水和蒸汽,如礦(kuang)物(wu)油(you)(275~300℃)、聯苯醚混(hun)合劑(沸點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態鉛(qian)(熔點327℃)等(deng)。
4、電加熱
將電阻(zu)(zu)絲(si)纏繞在反應釜(fu)筒(tong)體的(de)絕緣層上,或安裝在離反應釜(fu)若干(gan)距離的(de)特設絕緣體上,因此,在電阻(zu)(zu)絲(si)與(yu)反應釜(fu)體之間形成(cheng)了(le)不大的(de)空間間隙。
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