搪瓷反應釜是將含高二氧化硅的玻璃，襯在鋼制(zhi)(zhi)容器的內表(biao)面，經高溫(wen)灼燒而牢固地密(mi)著于金(jin)屬(shu)表(biao)面上成為(wei)復合(he)材料制(zhi)(zhi)品。所(suo)以，是一種(zhong)優良的耐腐蝕設備。

搪瓷反應釜技(ji)術規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機(ji)酸、無(wu)機(ji)酸、有(you)機(ji)溶(rong)劑(ji)均(jun)有(you)較好的(de)抗蝕性。如將(jiang)我廠生產的(de)搪(tang)玻璃試(shi)樣置于20%HCI溶(rong)液中煮沸(fei)48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指(zhi)標(biao)為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性(xing)溶(rong)液抗蝕(shi)(shi)性(xing)較酸溶(rong)液差。但將我廠搪玻璃試樣(yang)置于1N氫氧(yang)化鈉溶(rong)液腐蝕(shi)(shi)，試驗(yan)溫度(du)80℃時間48h。腐蝕(shi)(shi)速(su)率(lv)為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用溫度為0－200℃，耐溫急變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反應釜(fu)(fu)的瓷(ci)層(ceng)厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜(fu)(fu)附件的瓷(ci)層(ceng)厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具(ju)有良好(hao)的絕緣性，當(dang)搪玻璃在規定厚度(du)內用(yong)20KV高頻(pin)電火花檢查瓷(ci)層時，高頻(pin)電火花不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃(li)反應(ying)釜的(de)玻(bo)璃(li)層(ceng)內應(ying)力越(yue)小(xiao)，彈(dan)性越(yue)好(hao)，硬(ying)度越(yue)大，抗(kang)彎(wan)抗(kang)壓強度越(yue)高(gao)，則耐沖擊(ji)就越(yue)好(hao)。我廠(chang)之玻(bo)璃(li)層(ceng)在規定厚度內，用直徑30mm，重(zhong)量112g鋼球沖擊(ji)時，其(qi)沖擊(ji)功為282×10-3J（優(you)等(deng)品指標為260×10-3J）。

搪瓷反(fan)應釜應用領(ling)域：

搪瓷(ci)反應釜適(shi)用(yong)于石油化工(gong)、橡膠、農藥、染料、醫藥等(deng)行業，用(yong)以(yi)完成(cheng)磺(huang)化、硝(xiao)化、氫化、烴化、聚合、縮合等(deng)工(gong)藝過程(cheng)。

搪(tang)瓷反應(ying)(ying)釜工作溫(wen)度(du)較高，通常化學反應(ying)(ying)需(xu)要在一定(ding)的溫(wen)度(du)條件(jian)下才能進行，所以反應(ying)(ying)釜既承受壓力又承受溫(wen)度(du)。獲得高溫(wen)的方法通常有(you)以下幾種：

1、水加溫

要求(qiu)溫度(du)不高時(shi)可采用(yong)(yong)，其加熱系統(tong)有(you)敞(chang)開式和(he)密閉式兩(liang)種。敞(chang)開式較簡單，它由循環泵、水(shui)槽、管(guan)道(dao)及控制閥門的(de)調節器所(suo)組成(cheng)，當采用(yong)(yong)高壓水(shui)時(shi)，設備機械強(qiang)度(du)要求(qiu)高，反應釜(fu)(fu)外表面焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與(yu)釜(fu)(fu)壁(bi)有(you)間隙，使熱阻增加，傳熱效果(guo)降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫(wen)度在100℃以下時(shi)，可用一個大氣壓(ya)以下的蒸(zheng)汽來(lai)加熱；100~180℃范圍內，用飽和蒸(zheng)汽；當溫(wen)度更高時(shi)，可采用高壓(ya)過熱蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝(yi)要求必須在(zai)高溫下操作或欲(yu)避免(mian)采(cai)用(yong)高壓的(de)加熱系(xi)統時，可(ke)用(yong)其它介質來代替水(shui)和蒸汽(qi)，如(ru)礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等(deng)。

4、電加熱

將電阻絲(si)纏繞在反應釜(fu)筒體(ti)(ti)的(de)絕緣層上，或安裝在離反應釜(fu)若(ruo)干距(ju)離的(de)特設絕緣體(ti)(ti)上，因此，在電阻絲(si)與反應釜(fu)體(ti)(ti)之間(jian)形成了不大的(de)空間(jian)間(jian)隙。

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