搪瓷反應釜是將含高二(er)氧化硅的玻璃，襯在鋼制容器的內表(biao)面，經高溫灼(zhuo)燒而牢固地密著于金(jin)屬表(biao)面上成為(wei)復合材料制品。所(suo)以，是一種優良的耐腐蝕設備。

搪瓷反應釜技術規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均(jun)有(you)較(jiao)好(hao)的抗蝕性。如將我廠生產的搪玻璃試(shi)樣置于20%HCI溶液中煮沸(fei)48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等(deng)品(pin)指標(biao)為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃對堿性(xing)溶(rong)液抗蝕(shi)性(xing)較(jiao)酸溶(rong)液差。但將我廠搪玻(bo)璃試(shi)樣置于(yu)1N氫氧化(hua)鈉溶(rong)液腐(fu)蝕(shi)，試(shi)驗溫度(du)80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)速率為(wei)6.76g/m2.d（優(you)等品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為(wei)0－200℃，耐溫(wen)急變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反(fan)應釜的瓷(ci)層(ceng)厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)應釜附件的瓷(ci)層(ceng)厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具(ju)有良好的絕緣(yuan)性，當(dang)搪玻(bo)璃在(zai)規定厚度內用20KV高頻電火花(hua)檢查瓷層時，高頻電火花(hua)不能擊穿(chuan)瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃(li)反應釜的玻璃(li)層(ceng)內(nei)應力越(yue)小，彈性越(yue)好(hao)，硬(ying)度(du)越(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度(du)越(yue)高，則耐沖(chong)擊就越(yue)好(hao)。我廠之玻璃(li)層(ceng)在規定厚(hou)度(du)內(nei)，用直徑30mm，重(zhong)量112g鋼球(qiu)沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功為(wei)282×10-3J（優等品指(zhi)標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應(ying)釜應(ying)用領域(yu)：

搪瓷(ci)反應釜適用(yong)于(yu)石油化(hua)(hua)工、橡膠、農藥、染料、醫藥等行業，用(yong)以完(wan)成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫(qing)化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合、縮合等工藝過程。

搪瓷反(fan)應(ying)釜工作溫(wen)度(du)較高(gao)，通常化學反(fan)應(ying)需要在一定(ding)的溫(wen)度(du)條(tiao)件下才能進行，所以反(fan)應(ying)釜既承(cheng)受壓力(li)又承(cheng)受溫(wen)度(du)。獲得高(gao)溫(wen)的方法通常有以下幾(ji)種：

1、水加溫

要(yao)求溫度不高(gao)時可采用(yong)，其加熱(re)系(xi)統有敞開(kai)式和(he)密(mi)閉(bi)式兩種(zhong)。敞開(kai)式較(jiao)簡(jian)單，它(ta)由循環泵(beng)、水(shui)(shui)槽、管(guan)道及控制閥門的調節器所組成(cheng)，當(dang)采用(yong)高(gao)壓水(shui)(shui)時，設備機械(xie)強度要(yao)求高(gao)，反應釜(fu)外表面焊(han)上蛇(she)管(guan)，蛇(she)管(guan)與釜(fu)壁有間隙，使熱(re)阻增加，傳熱(re)效(xiao)果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫度在(zai)100℃以(yi)下時，可用(yong)一個大氣壓以(yi)下的蒸(zheng)汽來加(jia)熱(re)；100~180℃范圍內，用(yong)飽和(he)蒸(zheng)汽；當溫度更高時，可采用(yong)高壓過(guo)熱(re)蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要求必須在高溫(wen)下(xia)操(cao)作或欲避免采用高壓的加熱系統(tong)時(shi)，可用其它介質來代替水和蒸汽，如礦(kuang)物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚(mi)混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲纏繞(rao)在(zai)反應釜筒體(ti)的絕緣層(ceng)上，或安裝在(zai)離反應釜若干(gan)距離的特設絕緣體(ti)上，因此，在(zai)電阻絲與反應釜體(ti)之間形(xing)成了(le)不大的空間間隙。

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