搪瓷反應罐是將含高(gao)二(er)氧(yang)化硅(gui)的(de)玻(bo)璃(li)，襯在鋼制容器(qi)的(de)內表面(mian)，經高(gao)溫灼燒而牢固地密著于金屬表面(mian)上成(cheng)為復合材料制品。所以(yi)，是一種優良的(de)耐腐蝕設備。

搪瓷反應罐技術規范：

1、耐酸性：

對(dui)各種(zhong)有(you)(you)機(ji)酸、無機(ji)酸、有(you)(you)機(ji)溶劑(ji)均有(you)(you)較好的(de)抗蝕性(xing)。如將我廠生產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)(bo)璃(li)對(dui)堿性(xing)溶(rong)液抗蝕性(xing)較酸(suan)溶(rong)液差。但將我廠(chang)搪玻(bo)(bo)璃(li)試樣置于1N氫氧化(hua)鈉溶(rong)液腐蝕，試驗溫度80℃時(shi)間48h。腐蝕速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變(bian)性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷反應(ying)罐的(de)瓷層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反應(ying)釜(fu)附件的(de)瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具有(you)良好的絕(jue)緣性(xing)，當搪玻璃在規定厚度內(nei)用20KV高(gao)頻電火花檢查瓷層(ceng)時，高(gao)頻電火花不(bu)能(neng)擊穿瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪瓷反應罐的玻(bo)璃層內應力越(yue)(yue)小，彈(dan)性越(yue)(yue)好，硬度越(yue)(yue)大，抗(kang)(kang)彎(wan)抗(kang)(kang)壓強(qiang)度越(yue)(yue)高，則耐沖(chong)(chong)擊就越(yue)(yue)好。我廠(chang)之玻(bo)璃層在規定厚度內，用直徑(jing)30mm，重量112g鋼球沖(chong)(chong)擊時，其沖(chong)(chong)擊功(gong)為282×10-3J（優(you)等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷(ci)反應釜適用于石(shi)油化工、橡(xiang)膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業，用以完成磺化、硝化、氫(qing)化、烴化、聚合、縮合等工藝過程(cheng)。

搪瓷反(fan)應(ying)釜工作溫(wen)度(du)(du)較高(gao)，通常化學反(fan)應(ying)需要在一定的溫(wen)度(du)(du)條件下才(cai)能進行，所以(yi)反(fan)應(ying)釜既承受壓力又承受溫(wen)度(du)(du)。獲得高(gao)溫(wen)的方法通常有以(yi)下幾種：

1、水加溫

要(yao)求溫度(du)不高時可采用，其(qi)加熱系統有敞(chang)開(kai)式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞(chang)開(kai)式(shi)較(jiao)簡(jian)單(dan)，它由循環泵、水(shui)槽、管(guan)(guan)道及控制(zhi)閥門的調(diao)節器所組成，當采用高壓水(shui)時，設備機械強(qiang)度(du)要(yao)求高，反應釜外表面焊上蛇管(guan)(guan)，蛇管(guan)(guan)與釜壁(bi)有間隙，使熱阻增加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱溫(wen)度在100℃以下(xia)時，可(ke)用一(yi)個(ge)大(da)氣(qi)壓(ya)以下(xia)的(de)蒸汽來(lai)加(jia)熱；100~180℃范圍內，用飽和蒸汽；當溫(wen)度更高(gao)時，可(ke)采用高(gao)壓(ya)過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高(gao)溫下(xia)操作或欲避(bi)免采用(yong)高(gao)壓(ya)的加(jia)熱(re)系統時，可用(yong)其它介(jie)質來(lai)代替水和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛(qian)（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)(dian)阻絲(si)(si)纏(chan)繞在(zai)反應(ying)釜筒體的(de)絕緣層上，或(huo)安(an)裝在(zai)離反應(ying)釜若干距(ju)離的(de)特設絕緣體上，因(yin)此(ci)，在(zai)電(dian)(dian)阻絲(si)(si)與反應(ying)釜體之間形(xing)成(cheng)了不大的(de)空間間隙。

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