搪玻璃反應罐是將含高二氧化硅的(de)(de)玻璃，襯在鋼制容(rong)器的(de)(de)內表面(mian)，經高溫灼燒而(er)牢固地密著于金屬表面(mian)上成(cheng)為復(fu)合材料制品(pin)。所(suo)以(yi)，是一(yi)種優良的(de)(de)耐(nai)腐蝕設備。

搪玻璃(li)反應罐技術規范：

1、耐酸性：

對(dui)各種有機酸、無(wu)機酸、有機溶劑均有較好的(de)抗蝕(shi)性。如(ru)將我(wo)廠生產的(de)搪(tang)玻璃試樣(yang)置于20%HCI溶液中煮沸48h，腐蝕(shi)速率(lv)為(wei)0.9lg/m2.d（優等(deng)品指標(biao)為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性溶液抗蝕(shi)性較酸溶液差(cha)。但將(jiang)我(wo)廠搪玻璃試樣(yang)置于1N氫氧化鈉溶液腐蝕(shi)，試驗溫度80℃時間(jian)48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度(du)為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)應釜附件的瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻(bo)璃具有良好(hao)的絕緣性，當(dang)搪(tang)玻(bo)璃在規定厚度內用(yong)20KV高頻電火花(hua)檢查瓷層時，高頻電火花(hua)不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)(bo)璃反應(ying)(ying)罐的玻(bo)(bo)璃層(ceng)內(nei)應(ying)(ying)力(li)越(yue)小，彈性越(yue)好，硬度(du)越(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度(du)越(yue)高(gao)，則耐(nai)沖擊就越(yue)好。我(wo)廠(chang)之玻(bo)(bo)璃層(ceng)在規定厚(hou)度(du)內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼(gang)球沖擊時(shi)，其(qi)沖擊功(gong)為282×10-3J（優(you)等(deng)品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適用(yong)于(yu)石油化(hua)(hua)工、橡膠、農藥、染料、醫藥等(deng)行業，用(yong)以完成磺化(hua)(hua)、硝(xiao)化(hua)(hua)、氫(qing)化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚(ju)合(he)、縮合(he)等(deng)工藝過(guo)程。

搪瓷反應釜(fu)(fu)工作溫(wen)度較高，通常(chang)化學反應需要在一(yi)定的溫(wen)度條件下(xia)才能(neng)進行，所以反應釜(fu)(fu)既承(cheng)受壓(ya)力又承(cheng)受溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方法通常(chang)有(you)以下(xia)幾種(zhong)：

1、水加溫

要求溫(wen)度不高(gao)(gao)時可采(cai)用，其加(jia)熱系統有(you)敞開(kai)(kai)式和密閉式兩種(zhong)。敞開(kai)(kai)式較簡單，它由循(xun)環泵、水槽(cao)、管(guan)道及控(kong)制閥(fa)門的調節器所(suo)組成，當采(cai)用高(gao)(gao)壓水時，設備機械強度要求高(gao)(gao)，反應釜外(wai)表面焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜壁(bi)有(you)間(jian)隙(xi)，使熱阻增加(jia)，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫度在100℃以(yi)下時，可用(yong)一個大氣壓(ya)以(yi)下的蒸汽來加(jia)熱(re)；100~180℃范圍內，用(yong)飽和(he)蒸汽；當溫度更高時，可采(cai)用(yong)高壓(ya)過(guo)熱(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫下操作或欲避免采用(yong)高壓(ya)的加熱系統時，可用(yong)其(qi)它介質(zhi)來(lai)代(dai)替水和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚(mi)混合劑（沸點(dian)258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛(qian)（熔(rong)點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏繞(rao)在反應釜(fu)(fu)筒體(ti)的絕緣層上，或(huo)安裝在離(li)反應釜(fu)(fu)若干(gan)距離(li)的特設絕緣體(ti)上，因(yin)此，在電(dian)阻絲與反應釜(fu)(fu)體(ti)之間(jian)形成(cheng)了不大的空間(jian)間(jian)隙。

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