搪瓷反應罐是(shi)將含高二氧化(hua)硅(gui)的(de)玻璃，襯在鋼制容器的(de)內(nei)表(biao)面(mian)，經(jing)高溫(wen)灼燒而牢固地密著(zhu)于金屬(shu)表(biao)面(mian)上成(cheng)為復合材料制品。所以，是(shi)一種優良的(de)耐腐蝕(shi)設(she)備。

搪瓷(ci)反應罐技術規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無(wu)機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的(de)抗蝕(shi)(shi)性。如將(jiang)我廠生產的(de)搪玻璃試樣(yang)置(zhi)于20%HCI溶液中(zhong)煮沸(fei)48h，腐(fu)蝕(shi)(shi)速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品(pin)指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性溶(rong)液抗蝕性較(jiao)酸溶(rong)液差。但(dan)將我廠搪玻璃試樣(yang)置于(yu)1N氫氧化鈉溶(rong)液腐蝕，試驗溫度(du)80℃時間(jian)48h。腐蝕速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度(du)為(wei)0－200℃，耐溫急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反應罐的瓷(ci)層厚(hou)度0.8-2.0mm，搪玻璃(li)反應釜附(fu)件(jian)的瓷(ci)層厚(hou)度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具(ju)有良(liang)好的絕緣(yuan)性(xing)，當搪玻璃在規定厚度內(nei)用(yong)20KV高頻電火花(hua)檢查瓷(ci)層時(shi)，高頻電火花(hua)不能(neng)擊穿(chuan)瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪瓷反應罐的玻(bo)璃(li)層(ceng)(ceng)內(nei)應力越(yue)小，彈(dan)性(xing)越(yue)好，硬度(du)越(yue)大(da)，抗彎抗壓強度(du)越(yue)高，則耐沖擊(ji)就越(yue)好。我廠之玻(bo)璃(li)層(ceng)(ceng)在(zai)規定厚度(du)內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼球(qiu)沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為282×10-3J（優(you)等品(pin)指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷反(fan)應釜適(shi)用于石(shi)油化(hua)工(gong)(gong)、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業，用以完成(cheng)磺化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合(he)、縮(suo)合(he)等工(gong)(gong)藝過程。

搪瓷反應(ying)釜工(gong)作(zuo)溫(wen)度(du)(du)(du)較高，通(tong)(tong)常化學反應(ying)需要在一定(ding)的溫(wen)度(du)(du)(du)條件下(xia)才能(neng)進行，所以反應(ying)釜既承受壓(ya)力(li)又承受溫(wen)度(du)(du)(du)。獲得高溫(wen)的方法通(tong)(tong)常有以下(xia)幾種：

1、水加溫

要(yao)求(qiu)溫(wen)度(du)不高時(shi)可(ke)采用，其加熱(re)系統有敞(chang)開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞(chang)開式(shi)較簡單，它由循環泵、水槽、管道及控制閥門的調節器所組成，當采用高壓水時(shi)，設備機械強度(du)要(yao)求(qiu)高，反應(ying)釜外表面焊(han)上蛇管，蛇管與釜壁有間(jian)隙，使熱(re)阻(zu)增加，傳熱(re)效果降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加熱溫(wen)度在100℃以(yi)下時(shi)，可用一(yi)個大氣壓(ya)以(yi)下的蒸汽(qi)來加熱；100~180℃范圍(wei)內，用飽和(he)蒸汽(qi)；當溫(wen)度更高(gao)時(shi)，可采用高(gao)壓(ya)過熱蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須(xu)在高溫下(xia)操作(zuo)或(huo)欲避免(mian)采用高壓的加熱系統時(shi)，可用其(qi)它介質來代替水和蒸汽，如礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混合(he)劑(ji)（沸點(dian)258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)絲纏繞在反應釜筒體(ti)的(de)絕緣層(ceng)上(shang)，或安(an)裝在離反應釜若(ruo)干距離的(de)特設絕緣體(ti)上(shang)，因此，在電阻(zu)絲與反應釜體(ti)之間形成了不(bu)大的(de)空間間隙。

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