搪瓷反應罐是將含高(gao)二氧化硅的玻璃(li)，襯在鋼制容(rong)器的內表面，經高(gao)溫灼燒而牢固(gu)地密著(zhu)于金屬表面上(shang)成為復合(he)材料制品。所以，是一(yi)種優(you)良(liang)的耐(nai)腐(fu)蝕設備。

搪瓷反應(ying)罐技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對(dui)各種有(you)機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有(you)機(ji)溶(rong)劑均(jun)有(you)較好的抗蝕(shi)性(xing)。如將我廠(chang)生產的搪(tang)玻(bo)璃(li)試(shi)樣(yang)置(zhi)于20%HCI溶(rong)液(ye)中煮沸48h，腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對(dui)堿性溶(rong)液抗蝕(shi)性較(jiao)酸溶(rong)液差(cha)。但將我廠搪玻璃(li)試樣置(zhi)于1N氫氧化(hua)鈉(na)溶(rong)液腐(fu)蝕(shi)，試驗(yan)溫度80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等(deng)品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用(yong)溫度為(wei)0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反應(ying)(ying)罐(guan)的瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應(ying)(ying)釜(fu)附(fu)件的瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具(ju)有良好(hao)的絕緣性，當搪玻(bo)璃在(zai)規定厚度內用(yong)20KV高(gao)頻電火(huo)花(hua)檢查瓷層時，高(gao)頻電火(huo)花(hua)不(bu)能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪瓷反應罐的玻璃層(ceng)內應力(li)越(yue)小，彈性越(yue)好(hao)，硬度越(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度越(yue)高，則耐沖(chong)擊就(jiu)越(yue)好(hao)。我廠之玻璃層(ceng)在規定厚度內，用直徑30mm，重量112g鋼(gang)球沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功(gong)為282×10-3J（優等品指標(biao)為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷(ci)反應(ying)釜適用于石油化(hua)工、橡膠、農藥、染(ran)料、醫藥等(deng)(deng)行業，用以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴(jing)化(hua)、聚合(he)、縮合(he)等(deng)(deng)工藝過程。

搪瓷反(fan)應釜工(gong)作溫(wen)度較高(gao)，通(tong)常(chang)化(hua)學反(fan)應需要在一定的溫(wen)度條件(jian)下才能進行，所以(yi)反(fan)應釜既承(cheng)受壓力又(you)承(cheng)受溫(wen)度。獲得高(gao)溫(wen)的方(fang)法通(tong)常(chang)有以(yi)下幾(ji)種(zhong)：

1、水加溫

要求(qiu)溫度不高時(shi)可采(cai)用，其(qi)加熱(re)(re)系統有敞(chang)開式和密閉(bi)式兩種。敞(chang)開式較簡單，它由循環泵、水槽、管道(dao)及控制閥門的調節器所組成，當采(cai)用高壓水時(shi)，設備機械強(qiang)度要求(qiu)高，反應釜外表面焊上蛇(she)管，蛇(she)管與釜壁有間隙，使熱(re)(re)阻(zu)增加，傳(chuan)熱(re)(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以下(xia)時，可用一(yi)個大氣(qi)壓以下(xia)的(de)蒸(zheng)(zheng)(zheng)汽(qi)來(lai)加熱；100~180℃范圍(wei)內，用飽和(he)蒸(zheng)(zheng)(zheng)汽(qi)；當溫度更高(gao)時，可采用高(gao)壓過熱蒸(zheng)(zheng)(zheng)汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝(yi)要求必須在高溫(wen)下操作或(huo)欲避免采用高壓的(de)加熱系統時，可用其它介質來代(dai)替水和蒸汽，如礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混合(he)劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲纏繞在反應釜(fu)筒體(ti)(ti)的絕緣層上，或安(an)裝(zhuang)在離反應釜(fu)若干距離的特設絕緣體(ti)(ti)上，因(yin)此(ci)，在電阻絲與反應釜(fu)體(ti)(ti)之(zhi)間(jian)形成了不大的空間(jian)間(jian)隙。

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