搪玻璃反應釜是(shi)將含高(gao)(gao)二氧化硅的(de)玻璃，襯在鋼制容器的(de)內表面，經高(gao)(gao)溫灼(zhuo)燒而(er)牢(lao)固地(di)密著于金(jin)屬表面上成為復合材料(liao)制品。所(suo)以，是(shi)一(yi)種優良的(de)耐腐(fu)蝕設備。

搪(tang)玻璃反應釜技術規范：

1、耐酸性：

對各(ge)種(zhong)有(you)機(ji)酸、無機(ji)酸、有(you)機(ji)溶劑均有(you)較好的(de)(de)抗(kang)蝕(shi)性。如將我廠生產(chan)的(de)(de)搪玻(bo)璃試樣置于20%HCI溶液(ye)中(zhong)煮沸48h，腐蝕(shi)速(su)率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品(pin)指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻璃對(dui)堿性(xing)(xing)溶(rong)液抗蝕(shi)性(xing)(xing)較酸溶(rong)液差。但(dan)將我廠搪(tang)玻璃試(shi)樣置于1N氫(qing)氧化(hua)鈉溶(rong)液腐(fu)蝕(shi)，試(shi)驗溫度(du)80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應(ying)釜(fu)加熱和冷(leng)卻時，應(ying)緩慢(man)進行。我廠制造(zao)的(de)搪玻璃反應(ying)釜(fu)使用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的(de)瓷層厚(hou)度0.8-2.0mm，搪玻(bo)璃反應釜(fu)附件(jian)的(de)瓷層厚(hou)度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)(tang)玻璃(li)具有(you)良(liang)好的(de)絕(jue)緣性，當搪(tang)(tang)玻璃(li)在規(gui)定(ding)厚度(du)內用20KV高頻電(dian)火花檢查瓷層(ceng)時，高頻電(dian)火花不能擊穿瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反應(ying)釜的玻(bo)璃層(ceng)內應(ying)力越小，彈性越好，硬度越大，抗彎抗壓強度越高，則耐(nai)沖擊就越好。我廠之玻(bo)璃層(ceng)在規定厚(hou)度內，用直徑(jing)30mm，重量(liang)112g鋼球(qiu)沖擊時，其沖擊功為(wei)282×10-3J（優等品指標(biao)為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜(fu)適用(yong)于石油化(hua)工、橡膠(jiao)、農藥(yao)、染料、醫(yi)藥(yao)等行業，用(yong)以完成磺(huang)化(hua)、硝(xiao)化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮(suo)合等工藝(yi)過程。

搪瓷反應(ying)釜(fu)工作(zuo)溫(wen)度(du)(du)較高，通常化學反應(ying)需(xu)要在一定的(de)溫(wen)度(du)(du)條件下才能進行，所以(yi)反應(ying)釜(fu)既承受(shou)壓力又承受(shou)溫(wen)度(du)(du)。獲(huo)得高溫(wen)的(de)方法通常有以(yi)下幾種：

1、水加溫

要求溫度不高(gao)時可采用，其加熱(re)系統有敞開(kai)式和密(mi)閉式兩種。敞開(kai)式較簡單，它(ta)由循環泵、水槽(cao)、管(guan)道及(ji)控(kong)制(zhi)閥門(men)的調節(jie)器所組成，當采用高(gao)壓水時，設備(bei)機(ji)械強度要求高(gao)，反(fan)應釜(fu)外表(biao)面焊(han)上蛇(she)管(guan)，蛇(she)管(guan)與釜(fu)壁有間隙，使(shi)熱(re)阻增加，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以下(xia)時，可(ke)用(yong)一個大氣壓以下(xia)的(de)蒸(zheng)汽來加熱；100~180℃范(fan)圍內，用(yong)飽和蒸(zheng)汽；當溫度更高時，可(ke)采(cai)用(yong)高壓過熱蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫(wen)下操作或(huo)欲避免采用高壓的加熱系統(tong)時(shi)，可用其它介質來代替水和蒸汽，如(ru)礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電阻(zu)絲纏繞在(zai)反應釜筒體的絕緣層(ceng)上，或安裝在(zai)離反應釜若干距離的特(te)設(she)絕緣體上，因此，在(zai)電阻(zu)絲與(yu)反應釜體之間(jian)形成(cheng)了不大(da)的空間(jian)間(jian)隙。

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