搪瓷反應釜是(shi)將含高二(er)氧(yang)化硅的(de)玻璃，襯在鋼制容器的(de)內表面，經高溫灼燒而牢固地(di)密著(zhu)于金屬表面上成為復(fu)合(he)材料制品。所以，是(shi)一種優良的(de)耐腐蝕設備。

搪瓷(ci)反應釜技術(shu)規范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有機酸(suan)、無機酸(suan)、有機溶劑均有較好(hao)的(de)抗蝕性(xing)。如(ru)將我(wo)廠生產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中(zhong)煮(zhu)沸48h，腐(fu)蝕速率為(wei)(wei)0.9lg/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻(bo)璃對堿性(xing)溶(rong)(rong)液(ye)抗蝕(shi)性(xing)較(jiao)酸(suan)溶(rong)(rong)液(ye)差(cha)。但將我廠(chang)搪(tang)玻(bo)璃試(shi)樣(yang)置于1N氫氧化鈉溶(rong)(rong)液(ye)腐蝕(shi)，試(shi)驗溫度(du)80℃時間48h。腐蝕(shi)速(su)率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用(yong)溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷反(fan)應釜的(de)瓷層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反(fan)應釜附件的(de)瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具有良好的絕緣性，當搪玻(bo)璃在規定厚度內(nei)用20KV高(gao)頻電火(huo)花檢查(cha)瓷層(ceng)時(shi)，高(gao)頻電火(huo)花不(bu)能擊穿瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應(ying)釜的玻璃層(ceng)內(nei)應(ying)力(li)越(yue)(yue)小，彈性越(yue)(yue)好，硬(ying)度越(yue)(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度越(yue)(yue)高，則耐(nai)沖擊(ji)(ji)(ji)就越(yue)(yue)好。我廠之玻璃層(ceng)在規定厚(hou)度內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼(gang)球沖擊(ji)(ji)(ji)時，其沖擊(ji)(ji)(ji)功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應(ying)釜(fu)應(ying)用領域(yu)：

搪瓷反應(ying)釜適用(yong)于石(shi)油化(hua)工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業，用(yong)以完(wan)成磺(huang)化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚(ju)合、縮合等工藝(yi)過程。

搪瓷(ci)反(fan)應釜工作(zuo)溫度(du)較高(gao)(gao)，通常化(hua)學反(fan)應需要在(zai)一定的溫度(du)條件(jian)下才能進行，所以反(fan)應釜既承受(shou)壓力(li)又承受(shou)溫度(du)。獲得高(gao)(gao)溫的方法(fa)通常有(you)以下幾種(zhong)：

1、水加溫

要求溫(wen)度(du)不高(gao)時(shi)可(ke)采用，其加熱系統有敞開(kai)式和(he)密(mi)閉(bi)式兩種。敞開(kai)式較簡單，它(ta)由循環泵、水槽、管道(dao)及控制閥門的調節器所組成(cheng)，當采用高(gao)壓水時(shi)，設備(bei)機械強度(du)要求高(gao)，反(fan)應釜(fu)外表面焊上蛇管，蛇管與釜(fu)壁有間隙，使熱阻增加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫(wen)度(du)在100℃以(yi)下時，可用一個大氣壓以(yi)下的蒸汽來加熱(re)；100~180℃范圍內，用飽(bao)和蒸汽；當溫(wen)度(du)更高時，可采用高壓過熱(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要(yao)求必須在(zai)高溫下(xia)操作或欲避免采用(yong)(yong)高壓的加熱系統時，可用(yong)(yong)其它(ta)介質來(lai)代替(ti)水和蒸汽，如(ru)礦物(wu)油(you)（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態(tai)鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電(dian)阻絲纏繞在(zai)(zai)反應釜筒體(ti)的(de)(de)絕(jue)緣層(ceng)上，或安裝在(zai)(zai)離反應釜若干距(ju)離的(de)(de)特設(she)絕(jue)緣體(ti)上，因(yin)此，在(zai)(zai)電(dian)阻絲與反應釜體(ti)之間形成了不大的(de)(de)空間間隙。

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