搪瓷反應釜是(shi)將含高(gao)(gao)二(er)氧化(hua)硅的(de)玻璃，襯在(zai)鋼制容器的(de)內表面，經高(gao)(gao)溫灼燒(shao)而牢固(gu)地密(mi)著于金屬表面上成為復合材料制品。所以，是(shi)一種優良(liang)的(de)耐腐蝕設備。

搪瓷反(fan)應(ying)釜技術規范：

1、耐酸性：

對各種有機(ji)酸、無機(ji)酸、有機(ji)溶(rong)劑均有較好的抗蝕性。如將我廠生產的搪玻璃試樣置于(yu)20%HCI溶(rong)液(ye)中(zhong)煮沸48h，腐(fu)蝕速(su)率為0.9lg/m2.d（優等品指標(biao)為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃(li)對(dui)堿性(xing)溶液抗蝕(shi)性(xing)較酸溶液差(cha)。但將我廠搪玻(bo)璃(li)試樣置于1N氫氧化(hua)鈉溶液腐(fu)蝕(shi)，試驗溫度80℃時(shi)間48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標(biao)為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度(du)為0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反(fan)應釜(fu)的瓷(ci)層(ceng)(ceng)厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)應釜(fu)附件的瓷(ci)層(ceng)(ceng)厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃(li)具有良好的(de)絕(jue)緣(yuan)性，當(dang)搪(tang)玻璃(li)在規定厚度(du)內(nei)用20KV高頻電火花檢查瓷層時，高頻電火花不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃(li)(li)反應釜的玻璃(li)(li)層(ceng)內(nei)應力越小，彈性(xing)越好，硬度(du)越大，抗彎抗壓強度(du)越高，則耐沖擊就(jiu)越好。我廠之玻璃(li)(li)層(ceng)在規定厚(hou)度(du)內(nei)，用直徑30mm，重量(liang)112g鋼球(qiu)沖擊時，其沖擊功(gong)為282×10-3J（優(you)等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領(ling)域：

搪瓷反應釜適用于石油化(hua)(hua)工(gong)、橡(xiang)膠、農藥、染料、醫藥等行業，用以完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合、縮(suo)合等工(gong)藝過程。

搪瓷反應(ying)(ying)釜工作溫(wen)度較高，通常(chang)化學反應(ying)(ying)需(xu)要在(zai)一定的溫(wen)度條件(jian)下(xia)才能進(jin)行，所以反應(ying)(ying)釜既承(cheng)受壓力又(you)承(cheng)受溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方(fang)法(fa)通常(chang)有以下(xia)幾(ji)種：

1、水加溫

要求溫度不高時(shi)可采用，其加熱(re)(re)系(xi)統(tong)有敞開式(shi)和(he)密(mi)閉(bi)式(shi)兩種。敞開式(shi)較(jiao)簡單，它由循(xun)環泵、水(shui)槽、管道及(ji)控制閥(fa)門的(de)調節器(qi)所組成，當采用高壓水(shui)時(shi)，設備機械強度要求高，反應釜(fu)外表(biao)面焊上(shang)蛇管，蛇管與釜(fu)壁有間隙，使熱(re)(re)阻增加，傳熱(re)(re)效果降低(di)。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在(zai)100℃以下(xia)時(shi)，可用一(yi)個大(da)氣壓(ya)以下(xia)的(de)蒸汽來加熱；100~180℃范圍內，用飽和蒸汽；當溫度更高時(shi)，可采用高壓(ya)過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若(ruo)工藝要(yao)求必(bi)須在高溫下操(cao)作(zuo)或欲避免采用高壓的(de)加熱系統時，可(ke)用其它介質來代替水和蒸(zheng)汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚(mi)混合(he)劑（沸點(dian)258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態(tai)鉛（熔(rong)點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電阻絲(si)纏繞(rao)在反(fan)應(ying)釜筒體(ti)(ti)的(de)絕(jue)緣層(ceng)上，或安裝在離(li)反(fan)應(ying)釜若干(gan)距離(li)的(de)特設絕(jue)緣體(ti)(ti)上，因此(ci)，在電阻絲(si)與反(fan)應(ying)釜體(ti)(ti)之間形成(cheng)了(le)不大的(de)空(kong)間間隙(xi)。

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