搪玻璃反應釜是(shi)將含高(gao)二氧化硅(gui)的(de)玻(bo)璃，襯(chen)在鋼(gang)制(zhi)容器的(de)內表面，經(jing)高(gao)溫灼燒而(er)牢固地密著于金屬表面上成(cheng)為復合材料制(zhi)品。所以，是(shi)一(yi)種(zhong)優良的(de)耐腐蝕設備。

搪玻璃反應釜(fu)技術(shu)規范：

1、耐酸性：

對各種有機(ji)酸、無機(ji)酸、有機(ji)溶劑均有較好的(de)(de)抗(kang)蝕(shi)性。如將我廠生產的(de)(de)搪玻璃(li)試樣置于(yu)20%HCI溶液(ye)中(zhong)煮沸48h，腐蝕(shi)速率(lv)為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指(zhi)標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿性溶(rong)液抗蝕(shi)性較酸溶(rong)液差(cha)。但將我(wo)廠搪玻璃(li)試樣置(zhi)于1N氫氧(yang)化鈉溶(rong)液腐(fu)蝕(shi)，試驗溫(wen)度(du)80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品(pin)指(zhi)標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪(tang)(tang)玻璃反應(ying)釜加熱(re)和冷(leng)卻時，應(ying)緩慢進行。我廠制造的搪(tang)(tang)玻璃反應(ying)釜使用溫度(du)為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的(de)瓷(ci)層厚(hou)度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反應釜附件的(de)瓷(ci)層厚(hou)度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具有良好的絕緣性，當搪玻璃(li)在規定厚度內用20KV高頻電火花(hua)檢查瓷層時，高頻電火花(hua)不能(neng)擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反應釜(fu)的玻(bo)璃層內應力(li)越(yue)小(xiao)，彈性越(yue)好，硬度(du)越(yue)大(da)，抗彎(wan)抗壓強(qiang)度(du)越(yue)高(gao)，則耐沖(chong)擊就越(yue)好。我(wo)廠之玻(bo)璃層在規定厚度(du)內，用直徑30mm，重量112g鋼(gang)球沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功為(wei)(wei)282×10-3J（優等品指(zhi)標(biao)為(wei)(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應釜(fu)適用于石(shi)油化工(gong)(gong)、橡(xiang)膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業(ye)，用以完成磺化、硝化、氫化、烴化、聚合(he)、縮合(he)等工(gong)(gong)藝過(guo)程。

搪(tang)瓷反(fan)應釜工作(zuo)溫度(du)較高(gao)，通(tong)常化學反(fan)應需要在一定的溫度(du)條件下才能進行，所以反(fan)應釜既承(cheng)受(shou)壓力又承(cheng)受(shou)溫度(du)。獲得高(gao)溫的方法通(tong)常有以下幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時(shi)可采用(yong)，其加(jia)熱系統有敞開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞開式(shi)較簡單，它(ta)由循環泵、水(shui)槽、管(guan)道及控制(zhi)閥門的調節器所組成，當采用(yong)高壓水(shui)時(shi)，設備(bei)機械強度要求高，反(fan)應釜外表面(mian)焊上蛇(she)(she)管(guan)，蛇(she)(she)管(guan)與(yu)釜壁(bi)有間隙，使熱阻增加(jia)，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫(wen)度在(zai)100℃以下時，可用(yong)一個大氣(qi)壓以下的蒸汽來加熱(re)；100~180℃范圍內，用(yong)飽和蒸汽；當溫(wen)度更高(gao)時，可采(cai)用(yong)高(gao)壓過熱(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫下操(cao)作或欲避(bi)免(mian)采用高壓的加熱(re)系統時(shi)，可用其它介(jie)質來代替水(shui)和蒸汽(qi)，如礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔點327℃）等(deng)。

4、電加熱

將電阻絲纏(chan)繞(rao)在(zai)反(fan)(fan)應釜筒體的(de)絕緣層上，或(huo)安裝(zhuang)在(zai)離(li)反(fan)(fan)應釜若干距離(li)的(de)特設(she)絕緣體上，因此，在(zai)電阻絲與(yu)反(fan)(fan)應釜體之間形成了(le)不大的(de)空間間隙。

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