搪瓷反應罐是將含高二氧化硅的玻璃，襯在(zai)鋼制容器的內(nei)表(biao)面(mian)，經(jing)高溫(wen)灼(zhuo)燒而(er)牢(lao)固地密(mi)著于金屬(shu)表(biao)面(mian)上成為復(fu)合材料制品。所以，是一種(zhong)優(you)良的耐腐蝕設備。

搪(tang)瓷反應罐技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對(dui)各種有機酸、無(wu)機酸、有機溶劑均有較好的抗蝕性。如(ru)將(jiang)我廠生產的搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮沸48h，腐蝕速率(lv)為0.9lg/m2.d（優等品(pin)指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻璃對堿(jian)性溶(rong)液(ye)抗(kang)蝕性較酸溶(rong)液(ye)差(cha)。但將(jiang)我廠搪(tang)玻璃試樣置于1N氫(qing)氧化(hua)鈉溶(rong)液(ye)腐蝕，試驗溫度(du)80℃時間48h。腐蝕速(su)率為6.76g/m2.d（優(you)等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為0－200℃，耐(nai)溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷反(fan)應(ying)罐的瓷層(ceng)(ceng)厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻(bo)璃反(fan)應(ying)釜(fu)附件的瓷層(ceng)(ceng)厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具有良好(hao)的(de)絕緣性，當(dang)搪玻璃(li)在規定(ding)厚(hou)度內用(yong)20KV高(gao)頻電(dian)火(huo)花(hua)檢(jian)查瓷(ci)層時，高(gao)頻電(dian)火(huo)花(hua)不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪(tang)瓷反應罐(guan)的玻璃(li)層(ceng)內應力越(yue)(yue)小，彈性(xing)越(yue)(yue)好(hao)，硬度(du)越(yue)(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度(du)越(yue)(yue)高，則耐沖擊就越(yue)(yue)好(hao)。我廠之(zhi)玻璃(li)層(ceng)在規定厚度(du)內，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球(qiu)沖擊時，其沖擊功為282×10-3J（優等品指(zhi)標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜(fu)適用(yong)于石油化(hua)工(gong)(gong)、橡膠、農藥、染料、醫藥等(deng)行業，用(yong)以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等(deng)工(gong)(gong)藝過程(cheng)。

搪(tang)瓷反(fan)應釜工作溫度較高，通常化(hua)學反(fan)應需要在一定的溫度條件下(xia)才能(neng)進行(xing)，所以(yi)反(fan)應釜既承(cheng)受壓(ya)力(li)又承(cheng)受溫度。獲得高溫的方法(fa)通常有(you)以(yi)下(xia)幾種(zhong)：

1、水加溫

要(yao)求(qiu)溫度不高(gao)時可(ke)采(cai)用(yong)，其加(jia)熱(re)系統有敞(chang)(chang)開(kai)式(shi)和密閉(bi)式(shi)兩種。敞(chang)(chang)開(kai)式(shi)較簡單，它由循環泵、水(shui)槽、管道(dao)及(ji)控制閥門(men)的調節器所組(zu)成，當采(cai)用(yong)高(gao)壓(ya)水(shui)時，設備機械強(qiang)度要(yao)求(qiu)高(gao)，反應(ying)釜外表面焊上(shang)蛇管，蛇管與釜壁(bi)有間隙，使熱(re)阻增加(jia)，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在100℃以下時，可用(yong)一個大(da)氣壓以下的蒸汽(qi)來加熱(re)；100~180℃范圍內，用(yong)飽和蒸汽(qi)；當溫度更(geng)高時，可采用(yong)高壓過(guo)熱(re)蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要(yao)求必(bi)須(xu)在高溫下(xia)操作或欲避免采用高壓的加熱系(xi)統時，可用其它介質來代(dai)替(ti)水和(he)蒸汽，如礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混(hun)合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)絲(si)纏繞在(zai)反應釜筒(tong)體的絕緣層(ceng)上(shang)，或安裝在(zai)離反應釜若(ruo)干距離的特設(she)絕緣體上(shang)，因(yin)此，在(zai)電阻(zu)絲(si)與反應釜體之間形成(cheng)了不大的空間間隙。

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