搪玻璃反應罐是將含高(gao)二氧(yang)化硅的玻璃(li)，襯在鋼(gang)制容器的內表面，經(jing)高(gao)溫(wen)灼燒而牢固地密(mi)著于金屬表面上(shang)成(cheng)為復合(he)材料制品。所以，是一種優(you)良的耐腐蝕設備。

搪玻璃反應罐技術規(gui)范：

1、耐酸性：

對(dui)各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的抗蝕性。如將我(wo)廠生產的搪玻璃(li)試樣置于20%HCI溶液中煮沸(fei)48h，腐蝕速(su)率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃對堿性(xing)溶液(ye)(ye)抗(kang)蝕(shi)性(xing)較(jiao)酸溶液(ye)(ye)差。但將我廠(chang)搪玻(bo)璃試(shi)樣置(zhi)于1N氫氧化(hua)鈉溶液(ye)(ye)腐(fu)蝕(shi)，試(shi)驗(yan)溫度80℃時間(jian)48h。腐(fu)蝕(shi)速(su)率(lv)為6.76g/m2.d（優等(deng)品(pin)指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急變(bian)性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的瓷(ci)(ci)層厚(hou)(hou)度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反應釜(fu)附(fu)件的瓷(ci)(ci)層厚(hou)(hou)度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具有良好(hao)的(de)絕緣性，當(dang)搪玻璃(li)在規(gui)定(ding)厚度內用20KV高(gao)頻電(dian)火(huo)花檢查瓷(ci)層時，高(gao)頻電(dian)火(huo)花不能擊(ji)穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃(li)反應罐(guan)的玻(bo)璃(li)層(ceng)內應力(li)越小，彈性越好，硬(ying)度越大(da)，抗(kang)彎抗(kang)壓強(qiang)度越高，則耐沖(chong)(chong)(chong)擊就越好。我廠之玻(bo)璃(li)層(ceng)在規(gui)定厚度內，用直徑(jing)30mm，重量112g鋼球沖(chong)(chong)(chong)擊時，其沖(chong)(chong)(chong)擊功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷(ci)反應釜(fu)適用于石油化(hua)工(gong)、橡膠、農藥(yao)、染料(liao)、醫藥(yao)等行業，用以(yi)完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等工(gong)藝過程。

搪瓷(ci)反應(ying)釜(fu)(fu)工作溫(wen)度較高，通常(chang)化學反應(ying)需要(yao)在一定的溫(wen)度條件下才(cai)能進行，所以(yi)反應(ying)釜(fu)(fu)既承受(shou)壓力又(you)承受(shou)溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方法通常(chang)有以(yi)下幾種：

1、水加溫

要求溫度(du)不高時可(ke)采用，其加熱系(xi)統(tong)有敞(chang)開(kai)式和密閉式兩種。敞(chang)開(kai)式較簡單，它由循環泵(beng)、水槽、管道及控制(zhi)閥門的調節器(qi)所組成，當采用高壓(ya)水時，設備機械強度(du)要求高，反應(ying)釜外(wai)表(biao)面焊上(shang)蛇管，蛇管與釜壁有間(jian)隙(xi)，使(shi)熱阻增加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以(yi)下(xia)(xia)時(shi)，可用一個大氣壓(ya)以(yi)下(xia)(xia)的(de)蒸汽來加熱；100~180℃范圍內，用飽(bao)和(he)蒸汽；當溫度更高時(shi)，可采用高壓(ya)過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫下操作或欲避免采用高壓的加熱系統時，可用其它(ta)介質來代(dai)替水和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚混合(he)劑(ji)（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛(qian)（熔點327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電(dian)阻絲(si)纏繞在(zai)(zai)反(fan)應釜筒體(ti)的絕(jue)緣層上(shang)，或安裝(zhuang)在(zai)(zai)離反(fan)應釜若干距離的特設絕(jue)緣體(ti)上(shang)，因此，在(zai)(zai)電(dian)阻絲(si)與反(fan)應釜體(ti)之間形成(cheng)了不大(da)的空間間隙。

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