搪玻璃反應釜是將含高(gao)二氧化硅的玻(bo)璃，襯在鋼制(zhi)容器的內表(biao)面，經高(gao)溫灼燒而牢(lao)固地密著于金屬(shu)表(biao)面上成為復合材(cai)料制(zhi)品。所以，是一種優(you)良(liang)的耐腐蝕設備。

搪(tang)玻(bo)璃反應釜技術規范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的抗蝕(shi)性。如將我廠生產(chan)的搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h，腐蝕(shi)速(su)率為0.9lg/m2.d（優等品指標(biao)為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿(jian)性溶液(ye)(ye)抗蝕性較酸(suan)溶液(ye)(ye)差。但將我廠搪玻璃(li)試樣置于1N氫氧化鈉溶液(ye)(ye)腐蝕，試驗溫(wen)度80℃時(shi)間48h。腐蝕速率為(wei)6.76g/m2.d（優等品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃(li)反(fan)應(ying)釜加(jia)熱和冷卻時，應(ying)緩慢進行(xing)。我廠制造(zao)的搪玻璃(li)反(fan)應(ying)釜使用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的瓷(ci)(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜附件的瓷(ci)(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具(ju)有良好的絕緣(yuan)性(xing)，當搪玻(bo)璃在規定厚(hou)度內(nei)用20KV高頻電(dian)火花(hua)檢查瓷層時，高頻電(dian)火花(hua)不能擊(ji)穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應(ying)釜的玻璃層(ceng)(ceng)內(nei)應(ying)力越小(xiao)，彈性越好(hao)，硬度越大，抗(kang)彎(wan)抗(kang)壓強度越高(gao)，則耐沖擊(ji)就越好(hao)。我廠之(zhi)玻璃層(ceng)(ceng)在規定厚度內(nei)，用直(zhi)徑(jing)30mm，重量112g鋼球沖擊(ji)時(shi)，其沖擊(ji)功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適(shi)用于石(shi)油化(hua)工(gong)(gong)、橡膠、農藥、染料、醫(yi)藥等(deng)行業，用以(yi)完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合(he)、縮(suo)合(he)等(deng)工(gong)(gong)藝(yi)過程(cheng)。

搪瓷反(fan)應(ying)(ying)釜工作溫度(du)較高(gao)，通常(chang)(chang)化學(xue)反(fan)應(ying)(ying)需(xu)要在一定(ding)的溫度(du)條件(jian)下(xia)才(cai)能進(jin)行，所以(yi)反(fan)應(ying)(ying)釜既承受壓力又承受溫度(du)。獲得高(gao)溫的方法通常(chang)(chang)有以(yi)下(xia)幾種：

1、水加溫

要求溫度不(bu)高(gao)時(shi)可(ke)采(cai)用，其加熱系統有敞開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞開式(shi)較簡單，它由循環(huan)泵、水槽、管道及控制閥門的(de)調節器所組(zu)成，當采(cai)用高(gao)壓水時(shi)，設備機械(xie)強(qiang)度要求高(gao)，反(fan)應釜外(wai)表面(mian)焊上蛇管，蛇管與釜壁有間隙，使(shi)熱阻增加，傳熱效(xiao)果降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以下時，可用一個大(da)氣(qi)壓(ya)(ya)以下的蒸(zheng)汽來加熱；100~180℃范圍內，用飽和蒸(zheng)汽；當溫度更(geng)高時，可采用高壓(ya)(ya)過(guo)熱蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求(qiu)必須在高溫下操作或欲避免采用(yong)(yong)高壓的(de)加熱系(xi)統時，可(ke)用(yong)(yong)其它介質來代替水和(he)蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏繞在反應釜(fu)筒體的絕緣(yuan)層上(shang)，或安(an)裝(zhuang)在離反應釜(fu)若干距離的特設絕緣(yuan)體上(shang)，因此(ci)，在電(dian)阻絲與反應釜(fu)體之間(jian)形成了不(bu)大(da)的空(kong)間(jian)間(jian)隙。

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