搪瓷反應釜是將含高(gao)二氧化硅的玻璃(li)，襯在鋼制(zhi)(zhi)容器的內表面，經高(gao)溫灼燒而(er)牢固地密著于(yu)金屬表面上成為(wei)復合材料制(zhi)(zhi)品。所以，是一種優良的耐腐蝕(shi)設(she)備。

搪瓷反應釜技(ji)術規(gui)范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有機酸、無機酸、有機溶(rong)劑均有較好的(de)抗蝕性(xing)。如將我廠生產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶(rong)液(ye)中煮沸(fei)48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指標(biao)為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿性(xing)溶(rong)液(ye)抗(kang)蝕性(xing)較(jiao)酸溶(rong)液(ye)差。但將我(wo)廠搪玻璃(li)試(shi)樣(yang)置(zhi)于(yu)1N氫(qing)氧(yang)化鈉(na)溶(rong)液(ye)腐蝕，試(shi)驗溫度80℃時間48h。腐蝕速率為6.76g/m2.d（優等品(pin)指標(biao)為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為(wei)0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反應釜(fu)的瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜(fu)附件的瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具有良(liang)好的絕緣性(xing)，當搪玻(bo)璃在規定厚(hou)度內用20KV高頻(pin)電(dian)火花檢查瓷層時(shi)，高頻(pin)電(dian)火花不(bu)能擊穿(chuan)瓷層。

6、耐沖擊性：

搪(tang)玻(bo)璃反(fan)應釜的(de)玻(bo)璃層(ceng)內應力越小，彈性越好(hao)，硬度越大，抗彎抗壓強度越高，則耐(nai)沖擊(ji)就越好(hao)。我廠(chang)之(zhi)玻(bo)璃層(ceng)在規定厚度內，用直徑30mm，重(zhong)量(liang)112g鋼球沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為282×10-3J（優等品(pin)指(zhi)標為260×10-3J）。

搪(tang)瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適(shi)用于(yu)石油化工(gong)、橡(xiang)膠、農藥、染料、醫藥等(deng)行業(ye)，用以完成磺化、硝化、氫化、烴(jing)化、聚合、縮(suo)合等(deng)工(gong)藝過程。

搪瓷反(fan)應釜(fu)工(gong)作溫度(du)(du)較高，通常(chang)化學(xue)反(fan)應需(xu)要在一定的(de)溫度(du)(du)條件下(xia)才能進(jin)行，所(suo)以反(fan)應釜(fu)既承(cheng)受(shou)壓力(li)又承(cheng)受(shou)溫度(du)(du)。獲得高溫的(de)方法通常(chang)有以下(xia)幾種：

1、水加溫

要(yao)求溫度(du)不高時可采(cai)用，其加熱系統有敞開(kai)式和密閉式兩種。敞開(kai)式較簡單(dan)，它由循環(huan)泵、水槽、管道及控制閥門的調節器(qi)所組成，當采(cai)用高壓水時，設備機械(xie)強度(du)要(yao)求高，反應釜(fu)外表(biao)面(mian)焊(han)上(shang)蛇(she)管，蛇(she)管與釜(fu)壁(bi)有間隙，使熱阻增加，傳熱效果(guo)降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫(wen)度(du)在100℃以(yi)下時，可(ke)用一個大氣壓以(yi)下的蒸汽來加(jia)熱(re)；100~180℃范圍(wei)內，用飽和(he)蒸汽；當溫(wen)度(du)更高(gao)時，可(ke)采(cai)用高(gao)壓過熱(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要(yao)求(qiu)必(bi)須(xu)在高溫下操作(zuo)或(huo)欲避免采用高壓(ya)的加熱系(xi)統時，可用其它介質來代替水和蒸汽，如(ru)礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔(rong)點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏(chan)繞在(zai)反應釜(fu)筒體(ti)的(de)絕緣(yuan)層(ceng)上(shang)(shang)，或安(an)裝在(zai)離反應釜(fu)若干距離的(de)特(te)設絕緣(yuan)體(ti)上(shang)(shang)，因此，在(zai)電(dian)阻絲與反應釜(fu)體(ti)之間形成了不大的(de)空間間隙(xi)。

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