搪瓷反應釜是將含高(gao)二氧化硅的玻璃(li)，襯在鋼制(zhi)容器的內表(biao)面，經高(gao)溫灼燒而(er)牢(lao)固地(di)密著于金屬(shu)表(biao)面上成為復合材料(liao)制(zhi)品。所以(yi)，是一(yi)種(zhong)優良的耐腐蝕設備(bei)。

搪(tang)瓷反應釜技術規范：

1、耐酸性：

對各種有機酸、無機酸、有機溶劑均有較好的抗(kang)蝕性(xing)。如將(jiang)我(wo)廠生產的搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿性溶(rong)液抗蝕性較酸溶(rong)液差。但將我廠搪玻璃(li)試(shi)樣置于1N氫(qing)氧(yang)化鈉(na)溶(rong)液腐蝕，試(shi)驗溫度(du)80℃時間48h。腐蝕速率為(wei)6.76g/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷(ci)反應釜(fu)的(de)瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反應釜(fu)附件(jian)的(de)瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具有良(liang)好的絕緣(yuan)性，當搪玻璃在規定厚度(du)內用20KV高頻電火花檢查瓷(ci)層時，高頻電火花不能(neng)擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃(li)(li)反應釜的玻璃(li)(li)層(ceng)內應力越小，彈(dan)性越好(hao)，硬度(du)(du)越大(da)，抗彎(wan)抗壓(ya)強度(du)(du)越高，則耐(nai)沖擊(ji)就越好(hao)。我廠(chang)之玻璃(li)(li)層(ceng)在規定厚度(du)(du)內，用直徑(jing)30mm，重量112g鋼球沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為(wei)282×10-3J（優等(deng)品指標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反(fan)應釜應用(yong)領(ling)域：

搪瓷(ci)反應(ying)釜適用(yong)于(yu)石油化(hua)工、橡膠(jiao)、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等(deng)行業，用(yong)以完成磺(huang)化(hua)、硝(xiao)化(hua)、氫化(hua)、烴(jing)化(hua)、聚(ju)合、縮(suo)合等(deng)工藝過程。

搪瓷(ci)反(fan)(fan)(fan)應釜工作溫(wen)(wen)度(du)(du)較高(gao)，通(tong)常化學反(fan)(fan)(fan)應需要在一定(ding)的(de)溫(wen)(wen)度(du)(du)條件下才能進行，所以(yi)反(fan)(fan)(fan)應釜既承(cheng)(cheng)受壓力又(you)承(cheng)(cheng)受溫(wen)(wen)度(du)(du)。獲得高(gao)溫(wen)(wen)的(de)方法通(tong)常有以(yi)下幾種：

1、水加溫

要求溫(wen)度不高(gao)時可采用，其加熱(re)系統(tong)有敞(chang)開式(shi)和(he)密閉式(shi)兩種(zhong)。敞(chang)開式(shi)較簡單，它由(you)循(xun)環泵、水(shui)槽(cao)、管道(dao)及控制閥門的調節器所組(zu)成，當采用高(gao)壓水(shui)時，設(she)備機械強度要求高(gao)，反(fan)應釜(fu)外表面焊上蛇(she)管，蛇(she)管與釜(fu)壁有間(jian)隙，使熱(re)阻增加，傳熱(re)效果降低(di)。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以(yi)下時，可用(yong)一個大氣壓以(yi)下的蒸汽(qi)(qi)來加熱；100~180℃范圍內，用(yong)飽和蒸汽(qi)(qi)；當溫度更(geng)高(gao)時，可采用(yong)高(gao)壓過熱蒸汽(qi)(qi)。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要求必須(xu)在高溫下(xia)操作(zuo)或(huo)欲避免采用高壓的(de)加熱系統時，可用其(qi)它介質(zhi)來代替水和蒸汽，如礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態(tai)鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電(dian)阻絲纏繞在反應釜(fu)筒體(ti)(ti)的(de)絕緣層上(shang)，或安裝(zhuang)在離(li)反應釜(fu)若干距離(li)的(de)特(te)設絕緣體(ti)(ti)上(shang)，因此，在電(dian)阻絲與反應釜(fu)體(ti)(ti)之間(jian)形成(cheng)了不(bu)大(da)的(de)空間(jian)間(jian)隙(xi)。

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