搪瓷反應釜是將含高二氧(yang)化硅(gui)的玻璃，襯在鋼制容器的內表面，經高溫(wen)灼燒(shao)而牢(lao)固地密著于金屬(shu)表面上成為(wei)復合材料制品。所以(yi)，是一種(zhong)優良的耐(nai)腐蝕(shi)設備。

搪瓷(ci)反應釜(fu)技術規范：

1、耐酸性：

對各種有機酸、無機酸、有機溶(rong)劑均(jun)有較好的(de)抗蝕性(xing)。如將我廠生產的(de)搪玻璃(li)試樣置(zhi)于20%HCI溶(rong)液中煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等(deng)品(pin)指(zhi)標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性(xing)(xing)溶液抗蝕性(xing)(xing)較酸溶液差。但將我廠搪玻璃試樣置于1N氫(qing)氧化鈉(na)溶液腐蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐蝕速率為(wei)(wei)6.76g/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反應釜(fu)的瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻(bo)璃反應釜(fu)附件的瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具有良(liang)好的(de)絕緣性，當(dang)搪玻(bo)璃在規定厚度內用20KV高頻(pin)電(dian)火花(hua)檢查瓷層(ceng)時(shi)，高頻(pin)電(dian)火花(hua)不能擊(ji)穿瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應釜(fu)的玻璃層(ceng)內應力越(yue)(yue)小(xiao)，彈(dan)性越(yue)(yue)好(hao)，硬度越(yue)(yue)大(da)，抗彎抗壓強度越(yue)(yue)高，則耐(nai)沖擊就越(yue)(yue)好(hao)。我廠之玻璃層(ceng)在規定厚度內，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球沖擊時，其沖擊功為282×10-3J（優等品(pin)指標為260×10-3J）。

搪瓷反(fan)應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應(ying)釜適用于石油化(hua)工、橡(xiang)膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業(ye)，用以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等工藝過程。

搪(tang)瓷反(fan)應釜工作溫(wen)(wen)度較高，通常化學反(fan)應需(xu)要在一定的溫(wen)(wen)度條(tiao)件下才能進行(xing)，所以反(fan)應釜既承受壓力又承受溫(wen)(wen)度。獲得高溫(wen)(wen)的方法(fa)通常有以下幾種：

1、水加溫

要(yao)求(qiu)溫度(du)不高(gao)(gao)時可采(cai)用(yong)，其(qi)加熱(re)系統有敞開式(shi)和密(mi)閉式(shi)兩種。敞開式(shi)較簡(jian)單，它由循環泵、水槽、管道及控制閥(fa)門的調節器(qi)所組成，當采(cai)用(yong)高(gao)(gao)壓水時，設(she)備機械強度(du)要(yao)求(qiu)高(gao)(gao)，反應釜(fu)外(wai)表面焊上蛇(she)管，蛇(she)管與釜(fu)壁(bi)有間隙，使熱(re)阻增加，傳熱(re)效果降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱溫度在100℃以下(xia)時(shi)，可用一個(ge)大氣壓以下(xia)的蒸汽來加(jia)熱；100~180℃范(fan)圍內，用飽和蒸汽；當溫度更高(gao)時(shi)，可采用高(gao)壓過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高(gao)溫下操作或欲避免(mian)采用高(gao)壓的加熱(re)系統(tong)時，可(ke)用其它介質(zhi)來代替水(shui)和蒸(zheng)汽，如礦物(wu)油(you)（275～300℃）、聯苯醚(mi)混合劑(ji)（沸點258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲(si)纏繞在(zai)反(fan)(fan)應(ying)(ying)釜(fu)筒體(ti)的(de)絕緣層上(shang)，或安裝在(zai)離(li)反(fan)(fan)應(ying)(ying)釜(fu)若干距離(li)的(de)特設絕緣體(ti)上(shang)，因此，在(zai)電阻絲(si)與反(fan)(fan)應(ying)(ying)釜(fu)體(ti)之(zhi)間形成了不(bu)大(da)的(de)空間間隙(xi)。

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