搪瓷反應釜是將(jiang)含高二氧化硅的玻璃，襯在鋼(gang)制容(rong)器的內表面(mian)，經高溫灼燒而牢固地密著于金屬(shu)表面(mian)上(shang)成為(wei)復(fu)合材料(liao)制品。所以，是一種優良的耐(nai)腐蝕設備。

搪(tang)瓷反應釜技術規范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有機酸、無機酸、有機溶(rong)劑均有較好的抗蝕性。如將我廠生(sheng)產(chan)的搪玻(bo)璃(li)試樣(yang)置于20%HCI溶(rong)液中煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優(you)等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿(jian)性溶液(ye)(ye)抗蝕性較酸溶液(ye)(ye)差。但將(jiang)我廠搪玻璃試樣置于1N氫氧化鈉溶液(ye)(ye)腐蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐蝕速率為(wei)6.76g/m2.d（優等品指(zhi)標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用(yong)溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷反應(ying)釜的瓷層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應(ying)釜附件的瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具有良好(hao)的絕緣性，當搪玻(bo)璃在規(gui)定厚度(du)內用20KV高(gao)頻(pin)電火花檢查瓷(ci)層時，高(gao)頻(pin)電火花不能擊(ji)穿(chuan)瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃(li)反應釜的玻(bo)璃(li)層內應力(li)越(yue)小，彈性越(yue)好(hao)，硬度越(yue)大，抗彎(wan)抗壓強度越(yue)高，則耐沖(chong)擊(ji)就越(yue)好(hao)。我(wo)廠(chang)之玻(bo)璃(li)層在規定厚度內，用直徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)擊(ji)時，其沖(chong)擊(ji)功為(wei)282×10-3J（優等品(pin)指(zhi)標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應(ying)釜應(ying)用領域：

搪瓷反應釜適(shi)用于石(shi)油化工、橡膠、農(nong)藥(yao)、染料(liao)、醫(yi)藥(yao)等行業，用以完(wan)成磺化、硝化、氫化、烴化、聚(ju)合、縮(suo)合等工藝過程(cheng)。

搪(tang)瓷反(fan)應(ying)釜工作溫度(du)較高，通(tong)常化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)需要在一定的溫度(du)條件下(xia)才能(neng)進行(xing)，所以(yi)反(fan)應(ying)釜既承受(shou)壓(ya)力又承受(shou)溫度(du)。獲得高溫的方法通(tong)常有以(yi)下(xia)幾(ji)種：

1、水加溫

要(yao)(yao)求溫度(du)不高(gao)(gao)時可采用(yong)，其加(jia)熱系(xi)統有(you)敞開式和密閉(bi)式兩種(zhong)。敞開式較簡(jian)單，它由循環泵、水槽、管道及控制閥(fa)門的調節器所組(zu)成(cheng)，當采用(yong)高(gao)(gao)壓水時，設(she)備機械強度(du)要(yao)(yao)求高(gao)(gao)，反應(ying)釜外(wai)表(biao)面焊(han)上蛇(she)管，蛇(she)管與釜壁有(you)間隙，使熱阻增加(jia)，傳(chuan)熱效(xiao)果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以(yi)下時，可用(yong)一(yi)個大氣(qi)壓以(yi)下的蒸汽來加熱；100~180℃范(fan)圍內，用(yong)飽和蒸汽；當溫度更(geng)高時，可采(cai)用(yong)高壓過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若(ruo)工藝要求必須在(zai)高溫下操作或欲(yu)避(bi)免采用(yong)高壓的加熱(re)系統時，可(ke)用(yong)其它介質(zhi)來代(dai)替水和蒸(zheng)汽(qi)，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合(he)劑（沸點258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等(deng)。

4、電加熱

將電阻(zu)絲(si)(si)纏繞在(zai)反應(ying)釜筒體(ti)(ti)的(de)絕緣層上，或安裝在(zai)離反應(ying)釜若(ruo)干距離的(de)特設絕緣體(ti)(ti)上，因此，在(zai)電阻(zu)絲(si)(si)與反應(ying)釜體(ti)(ti)之間形(xing)成了不大的(de)空間間隙(xi)。

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