搪玻璃反應釜是將含高二氧化硅的(de)玻(bo)璃(li)，襯在(zai)鋼制(zhi)容器(qi)的(de)內(nei)表面(mian)，經高溫灼燒而牢(lao)固地密(mi)著于金(jin)屬表面(mian)上成為(wei)復合(he)材料制(zhi)品。所以，是一種優良的(de)耐腐蝕(shi)設備。

搪玻(bo)璃(li)反應(ying)釜技(ji)術規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有(you)機(ji)溶(rong)劑均有(you)較(jiao)好的(de)抗蝕性。如將我廠生產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶(rong)液中煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿(jian)性溶(rong)液抗蝕(shi)性較酸溶(rong)液差(cha)。但將我廠搪玻璃試樣置于1N氫氧(yang)化鈉溶(rong)液腐蝕(shi)，試驗溫(wen)度80℃時間48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品(pin)指(zhi)標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應(ying)釜(fu)加熱和冷卻時(shi)，應(ying)緩慢進行。我廠制(zhi)造的(de)搪玻璃反應(ying)釜(fu)使用溫度為0－200℃，耐溫急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜附件的瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻(bo)(bo)璃(li)具有良好的絕(jue)緣性，當搪(tang)玻(bo)(bo)璃(li)在規定厚度內用20KV高頻電(dian)火(huo)(huo)花(hua)(hua)檢查(cha)瓷層時(shi)，高頻電(dian)火(huo)(huo)花(hua)(hua)不能(neng)擊(ji)穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃(li)(li)反應釜的玻(bo)璃(li)(li)層內應力(li)越小，彈性越好，硬度越大(da)，抗(kang)彎抗(kang)壓強度越高，則(ze)耐沖(chong)擊(ji)就越好。我(wo)廠之玻(bo)璃(li)(li)層在規定厚度內，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)擊(ji)時，其沖(chong)擊(ji)功為(wei)(wei)282×10-3J（優等品指標為(wei)(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應(ying)釜(fu)適用于(yu)石(shi)油(you)化(hua)(hua)工、橡膠、農藥、染料、醫藥等行業，用以完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合、縮合等工藝(yi)過程(cheng)。

搪瓷反(fan)應(ying)釜(fu)工作溫度較高，通常化學反(fan)應(ying)需要(yao)在(zai)一定的溫度條件下才能(neng)進行，所以反(fan)應(ying)釜(fu)既(ji)承受壓力(li)又承受溫度。獲得高溫的方法(fa)通常有以下幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時可采用(yong)，其加熱系統有(you)敞(chang)開式和密閉式兩種(zhong)。敞(chang)開式較簡單，它由循環泵(beng)、水(shui)(shui)槽、管(guan)道(dao)及(ji)控制閥門的調節器所組(zu)成(cheng)，當采用(yong)高壓水(shui)(shui)時，設(she)備機械強度要求高，反應(ying)釜外表面焊上蛇(she)(she)管(guan)，蛇(she)(she)管(guan)與(yu)釜壁有(you)間隙(xi)，使熱阻增加，傳(chuan)熱效果(guo)降低(di)。

2、蒸汽加熱

加熱溫(wen)度(du)在100℃以(yi)下時，可(ke)用(yong)一個(ge)大氣壓(ya)以(yi)下的(de)蒸汽來(lai)加熱；100~180℃范圍內，用(yong)飽和蒸汽；當溫(wen)度(du)更高時，可(ke)采用(yong)高壓(ya)過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若(ruo)工藝要求必須在高溫下操作(zuo)或(huo)欲避免采用高壓的加熱(re)系統時，可(ke)用其它介質來代替水和蒸汽，如礦物(wu)油(you)（275～300℃）、聯苯(ben)醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻(zu)(zu)絲纏繞在反應(ying)釜筒體的(de)絕緣層(ceng)上，或安裝在離(li)反應(ying)釜若(ruo)干距(ju)離(li)的(de)特設絕緣體上，因此(ci)，在電(dian)阻(zu)(zu)絲與(yu)反應(ying)釜體之間(jian)形成了不大的(de)空間(jian)間(jian)隙。

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