搪玻璃反應罐是(shi)將含高二氧化硅(gui)的玻璃，襯在鋼制容(rong)器的內表面，經高溫(wen)灼燒而(er)牢固地密著于金屬(shu)表面上成為復合(he)材(cai)料制品。所以(yi)，是(shi)一種優良的耐腐蝕設(she)備。

搪玻璃反應罐技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對(dui)各種有機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有機(ji)溶劑均有較好的抗蝕性(xing)。如將我(wo)廠生產的搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮(zhu)沸(fei)48h，腐(fu)蝕速率為0.9lg/m2.d（優(you)等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性(xing)溶液抗(kang)蝕性(xing)較酸溶液差。但將我廠(chang)搪玻璃試(shi)(shi)樣置于1N氫(qing)氧(yang)化鈉溶液腐(fu)(fu)蝕，試(shi)(shi)驗溫度80℃時(shi)間48h。腐(fu)(fu)蝕速率(lv)為(wei)6.76g/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷層(ceng)厚度(du)0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反應釜附件的(de)瓷層(ceng)厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃具有良好的絕緣(yuan)性(xing)，當(dang)搪(tang)玻璃在規(gui)定厚(hou)度(du)內用(yong)20KV高頻(pin)電火(huo)花檢查瓷層時，高頻(pin)電火(huo)花不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃(li)反應(ying)(ying)罐(guan)的(de)玻(bo)璃(li)層(ceng)內(nei)應(ying)(ying)力越(yue)小(xiao)，彈性越(yue)好，硬度(du)(du)越(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度(du)(du)越(yue)高，則耐(nai)沖擊就越(yue)好。我廠之玻(bo)璃(li)層(ceng)在規定厚度(du)(du)內(nei)，用直徑(jing)30mm，重量(liang)112g鋼(gang)球沖擊時，其沖擊功為282×10-3J（優等品指(zhi)標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適用于石油化(hua)(hua)工、橡(xiang)膠(jiao)、農(nong)藥(yao)、染料、醫(yi)藥(yao)等行業，用以完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚(ju)合(he)、縮(suo)合(he)等工藝過程。

搪瓷(ci)反(fan)應釜(fu)工作溫(wen)(wen)度較高，通(tong)常化學反(fan)應需要在(zai)一定的溫(wen)(wen)度條件下(xia)才能進行，所以反(fan)應釜(fu)既承(cheng)受壓力又承(cheng)受溫(wen)(wen)度。獲得高溫(wen)(wen)的方(fang)法通(tong)常有以下(xia)幾種：

1、水加溫

要(yao)求溫(wen)度(du)不高時可采用(yong)，其加熱系統有敞開式和密(mi)閉式兩種。敞開式較簡單，它由(you)循環泵、水(shui)槽、管(guan)道及控制閥門(men)的調節器所組成，當采用(yong)高壓水(shui)時，設(she)備機械強度(du)要(yao)求高，反應(ying)釜(fu)外表(biao)面焊(han)上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜(fu)壁有間隙(xi)，使熱阻(zu)增(zeng)加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫(wen)度(du)在100℃以(yi)下(xia)時(shi)，可(ke)用一個大(da)氣壓以(yi)下(xia)的蒸(zheng)汽來加熱；100~180℃范(fan)圍(wei)內，用飽和蒸(zheng)汽；當溫(wen)度(du)更高時(shi)，可(ke)采用高壓過熱蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若(ruo)工藝要求必須在高溫下(xia)操作或欲避(bi)免采用(yong)高壓的加熱系統時，可用(yong)其它介(jie)質來(lai)代替水和(he)蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛(qian)（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲纏繞(rao)在反應(ying)釜筒體的(de)絕緣層(ceng)上(shang)，或安裝(zhuang)在離(li)反應(ying)釜若干距離(li)的(de)特(te)設(she)絕緣體上(shang)，因此(ci)，在電阻絲與反應(ying)釜體之間形成了不大(da)的(de)空間間隙。

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