山東搪聯化工設備有限公司(si)
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搪玻璃反應釜是將含高(gao)二氧化硅的(de)玻璃,襯在鋼制(zhi)容(rong)器(qi)的(de)內(nei)表面,經(jing)高(gao)溫(wen)灼燒而牢固地密著于金屬表面上成為(wei)復合(he)材料制(zhi)品。所(suo)以,是一種優良的(de)耐(nai)腐蝕設備(bei)。
搪玻(bo)璃反應(ying)釜技術規(gui)范:
1、耐酸性:
對各(ge)種有機(ji)酸、無機(ji)酸、有機(ji)溶劑均有較好的(de)(de)抗蝕(shi)性。如將我廠生(sheng)產(chan)的(de)(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮沸48h,腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d(優等品指標為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪(tang)玻(bo)璃(li)(li)對(dui)堿性溶液(ye)抗蝕性較酸溶液(ye)差。但將我(wo)廠搪(tang)玻(bo)璃(li)(li)試樣(yang)置于1N氫氧化(hua)鈉(na)溶液(ye)腐蝕,試驗溫度80℃時間48h。腐蝕速率為6.76g/m2.d(優等品指標為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
搪玻(bo)璃(li)反應釜加熱和(he)冷卻時(shi),應緩慢進行。我廠制造的(de)搪玻(bo)璃(li)反應釜使用(yong)溫(wen)度為(wei)0-200℃,耐溫(wen)急變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
淄博搪玻璃反應釜的瓷層(ceng)厚度0.8-2.0mm,搪玻(bo)璃反應(ying)釜附件的瓷層(ceng)厚度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻璃具有(you)良好的絕緣性,當搪玻璃在規定厚度內用(yong)20KV高(gao)頻電火花檢查(cha)瓷(ci)(ci)層時,高(gao)頻電火花不能擊(ji)穿瓷(ci)(ci)層。
6、耐沖擊性:
搪玻璃(li)反應釜(fu)的玻璃(li)層內應力越(yue)小(xiao),彈性(xing)越(yue)好,硬度越(yue)大,抗彎抗壓強度越(yue)高(gao),則耐沖(chong)擊(ji)(ji)就越(yue)好。我廠(chang)之玻璃(li)層在規定(ding)厚度內,用直徑30mm,重量(liang)112g鋼球(qiu)沖(chong)擊(ji)(ji)時,其沖(chong)擊(ji)(ji)功為(wei)282×10-3J(優等(deng)品(pin)指標為(wei)260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷反應釜適用(yong)于石油化(hua)工(gong)、橡膠、農藥(yao)、染(ran)料、醫藥(yao)等行(xing)業(ye),用(yong)以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等工(gong)藝過程。
搪瓷(ci)反應釜(fu)工作溫度較高,通(tong)常(chang)化學反應需要在(zai)一定的(de)溫度條件下才能進(jin)行(xing),所(suo)以(yi)反應釜(fu)既承受壓力又(you)承受溫度。獲(huo)得高溫的(de)方(fang)法(fa)通(tong)常(chang)有以(yi)下幾(ji)種:
1、水加溫
要求(qiu)溫度不高時可采用,其加熱系統有敞(chang)開式(shi)和(he)密閉式(shi)兩(liang)種。敞(chang)開式(shi)較簡單(dan),它由循環泵、水槽、管道及(ji)控(kong)制閥門的調節器所組成,當采用高壓水時,設備(bei)機械(xie)強度要求(qiu)高,反應釜外表面焊上(shang)蛇管,蛇管與釜壁(bi)有間隙,使熱阻增加,傳熱效(xiao)果(guo)降(jiang)低。
2、蒸汽加熱
加熱溫度(du)在100℃以(yi)(yi)下時,可用(yong)一個大氣壓以(yi)(yi)下的(de)蒸汽來加熱;100~180℃范圍內(nei),用(yong)飽(bao)和蒸汽;當溫度(du)更(geng)高時,可采用(yong)高壓過熱蒸汽。
3、用其它介質加熱
若工藝要求必須在高溫下(xia)操(cao)作(zuo)或(huo)欲(yu)避免采(cai)用(yong)高壓的加熱(re)系統時,可用(yong)其它介質來(lai)代替(ti)水和蒸汽,如礦物油(275~300℃)、聯苯醚混(hun)合劑(沸(fei)點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態(tai)鉛(qian)(熔點327℃)等。
4、電加熱
將電(dian)阻(zu)絲纏繞(rao)在(zai)(zai)反應(ying)(ying)釜筒(tong)體(ti)的絕緣(yuan)層上,或安(an)裝在(zai)(zai)離反應(ying)(ying)釜若干距離的特設絕緣(yuan)體(ti)上,因此(ci),在(zai)(zai)電(dian)阻(zu)絲與反應(ying)(ying)釜體(ti)之(zhi)間形成了不大的空間間隙。
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