搪玻璃反應罐是將含(han)高(gao)二氧化(hua)硅的玻璃(li)，襯在鋼制(zhi)容器的內表(biao)面，經(jing)高(gao)溫(wen)灼燒而牢固地密著于金屬表(biao)面上成為復合(he)材料制(zhi)品。所以(yi)，是一(yi)種優(you)良(liang)的耐腐蝕(shi)設備。

搪玻璃反應罐技術規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的抗蝕性(xing)。如將我廠生產的搪玻璃(li)試(shi)樣(yang)置于20%HCI溶液(ye)中煮沸48h，腐蝕速率(lv)為0.9lg/m2.d（優等品指(zhi)標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃對堿性(xing)溶液(ye)抗蝕性(xing)較酸溶液(ye)差(cha)。但將我廠搪玻(bo)璃試(shi)樣置于(yu)1N氫氧化鈉溶液(ye)腐(fu)蝕，試(shi)驗溫度80℃時間(jian)48h。腐(fu)蝕速率為6.76g/m2.d（優(you)等(deng)品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用(yong)溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃(li)反應釜附(fu)件的(de)瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃(li)具有良好的(de)絕緣性(xing)，當搪玻(bo)璃(li)在規(gui)定厚(hou)度內用20KV高頻(pin)電火花檢查瓷層時，高頻(pin)電火花不(bu)能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃(li)反應罐的玻(bo)璃(li)層內應力越(yue)小，彈性越(yue)好，硬(ying)度越(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓(ya)強度越(yue)高，則耐沖擊就越(yue)好。我廠之玻(bo)璃(li)層在規定(ding)厚度內，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼(gang)球沖擊時，其沖擊功(gong)為282×10-3J（優等(deng)品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適用(yong)于(yu)石油化(hua)工、橡膠(jiao)、農藥、染(ran)料、醫(yi)藥等行業，用(yong)以(yi)完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合(he)、縮合(he)等工藝(yi)過程。

搪瓷反應(ying)釜(fu)工作(zuo)溫(wen)(wen)度較高(gao)，通常化(hua)學反應(ying)需要(yao)在一定的溫(wen)(wen)度條件(jian)下才能進行，所以反應(ying)釜(fu)既承受(shou)壓力又承受(shou)溫(wen)(wen)度。獲(huo)得高(gao)溫(wen)(wen)的方法(fa)通常有以下幾種：

1、水加溫

要求(qiu)(qiu)溫度(du)不(bu)高時(shi)可采(cai)用，其加熱(re)(re)系統有(you)敞開式和密閉(bi)式兩種。敞開式較簡單，它由循環泵、水槽(cao)、管(guan)道及控制(zhi)閥門的調(diao)節(jie)器所組成，當(dang)采(cai)用高壓水時(shi)，設備機械強度(du)要求(qiu)(qiu)高，反應釜外表面焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜壁有(you)間隙，使熱(re)(re)阻增(zeng)加，傳熱(re)(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)(re)溫度在100℃以下(xia)時(shi)，可用一個大氣壓以下(xia)的蒸(zheng)(zheng)汽(qi)來(lai)加熱(re)(re)；100~180℃范圍內，用飽和(he)蒸(zheng)(zheng)汽(qi)；當(dang)溫度更(geng)高時(shi)，可采用高壓過熱(re)(re)蒸(zheng)(zheng)汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求(qiu)必須(xu)在高(gao)溫下操(cao)作或(huo)欲避免采用高(gao)壓的(de)加熱系統時(shi)，可用其它(ta)介質來代替水和蒸汽，如礦(kuang)物油（275～300℃）、聯苯醚混合(he)劑（沸點(dian)258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛(qian)（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲纏繞在反應(ying)(ying)釜(fu)筒體的絕緣(yuan)層上(shang)，或安裝在離(li)反應(ying)(ying)釜(fu)若干距(ju)離(li)的特設絕緣(yuan)體上(shang)，因此，在電阻絲與反應(ying)(ying)釜(fu)體之間形成(cheng)了不大的空間間隙(xi)。

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