搪瓷反應罐是將含高(gao)二氧化硅的玻璃，襯在鋼制(zhi)容器的內表面(mian)，經高(gao)溫灼燒(shao)而(er)牢固地(di)密著于金屬表面(mian)上成為復合材料制(zhi)品。所以，是一種優良的耐腐(fu)蝕設(she)備(bei)。

搪(tang)瓷(ci)反應罐技(ji)術規范：

1、耐酸性：

對各種有機(ji)(ji)酸、無機(ji)(ji)酸、有機(ji)(ji)溶(rong)劑均有較好的(de)抗蝕性。如將我廠(chang)生(sheng)產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶(rong)液(ye)中煮沸48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃對(dui)堿性溶(rong)液抗蝕(shi)性較酸溶(rong)液差(cha)。但(dan)將我廠搪玻(bo)璃試樣置于1N氫氧化鈉溶(rong)液腐蝕(shi)，試驗溫(wen)度80℃時間48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用(yong)溫度(du)為0－200℃，耐溫急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷反應罐(guan)的(de)瓷層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻(bo)璃反應釜附件(jian)的(de)瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具有良好的絕緣性，當搪玻璃(li)在規(gui)定厚(hou)度(du)內用20KV高(gao)頻電(dian)(dian)火花(hua)檢查瓷(ci)層(ceng)時，高(gao)頻電(dian)(dian)火花(hua)不能擊穿瓷(ci)層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪瓷反應罐的玻璃層內應力越(yue)(yue)(yue)小，彈性越(yue)(yue)(yue)好(hao)，硬(ying)度越(yue)(yue)(yue)大，抗彎抗壓(ya)強(qiang)度越(yue)(yue)(yue)高，則耐(nai)沖擊(ji)(ji)就越(yue)(yue)(yue)好(hao)。我廠之(zhi)玻璃層在規(gui)定厚(hou)度內，用直徑30mm，重量112g鋼球沖擊(ji)(ji)時，其沖擊(ji)(ji)功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適用于石油化(hua)(hua)工(gong)、橡(xiang)膠、農藥、染料、醫藥等(deng)行業，用以完成磺(huang)化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫(qing)化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合(he)(he)、縮合(he)(he)等(deng)工(gong)藝過(guo)程。

搪瓷反(fan)應釜(fu)工(gong)作溫(wen)度較高，通常(chang)化學反(fan)應需要在一定的溫(wen)度條件下才能進行，所以反(fan)應釜(fu)既(ji)承受壓力又承受溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方法通常(chang)有以下幾種：

1、水加溫

要(yao)求(qiu)(qiu)溫度(du)(du)不高時可(ke)采(cai)用，其(qi)加熱系統有(you)敞開式和密閉式兩(liang)種。敞開式較簡單，它由循環(huan)泵、水槽、管(guan)(guan)道及(ji)控(kong)制閥門的調節器所組成，當采(cai)用高壓水時，設備機械強度(du)(du)要(yao)求(qiu)(qiu)高，反應釜外表面焊上(shang)蛇(she)管(guan)(guan)，蛇(she)管(guan)(guan)與釜壁有(you)間隙，使熱阻增加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在100℃以下時，可用(yong)一個大氣(qi)壓以下的蒸汽(qi)(qi)來加熱(re)；100~180℃范圍(wei)內，用(yong)飽和(he)蒸汽(qi)(qi)；當溫度更高(gao)時，可采用(yong)高(gao)壓過熱(re)蒸汽(qi)(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫下(xia)操作(zuo)或欲避免采用(yong)高壓的加熱系統時，可(ke)用(yong)其它介(jie)質來代替水和蒸(zheng)汽(qi)，如礦物油(you)（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態(tai)鉛（熔(rong)點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電(dian)(dian)阻絲纏(chan)繞(rao)在(zai)反應釜筒體的(de)絕緣(yuan)層上，或安(an)裝在(zai)離(li)反應釜若干距(ju)離(li)的(de)特設絕緣(yuan)體上，因(yin)此，在(zai)電(dian)(dian)阻絲與反應釜體之間(jian)形成(cheng)了不大的(de)空間(jian)間(jian)隙。

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