搪瓷反應罐是(shi)將含高(gao)二氧(yang)化(hua)硅的(de)玻璃，襯(chen)在鋼制容器的(de)內表面，經(jing)高(gao)溫灼(zhuo)燒而牢固地密著于(yu)金屬表面上成為復(fu)合材料(liao)制品。所以，是(shi)一(yi)種(zhong)優良的(de)耐(nai)腐蝕設備(bei)。

搪瓷(ci)反(fan)應罐技術規(gui)范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的抗蝕性。如將(jiang)我廠生(sheng)產的搪玻璃(li)試樣置于20%HCI溶液中煮沸48h，腐蝕速率(lv)為(wei)0.9lg/m2.d（優等(deng)品指標(biao)為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)(tang)玻璃對堿性溶液(ye)抗(kang)蝕性較酸溶液(ye)差(cha)。但將我廠搪(tang)(tang)玻璃試樣置于(yu)1N氫氧化鈉溶液(ye)腐蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐蝕速率(lv)為6.76g/m2.d（優等品(pin)指(zhi)標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度(du)為0－200℃，耐(nai)溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反應(ying)罐的(de)(de)瓷(ci)層(ceng)厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反應(ying)釜(fu)附件的(de)(de)瓷(ci)層(ceng)厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃具(ju)有良好的絕緣性，當搪(tang)玻璃在規(gui)定厚度(du)內(nei)用20KV高(gao)頻電火(huo)花(hua)檢查瓷層時，高(gao)頻電火(huo)花(hua)不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪瓷反應罐的玻(bo)璃層內應力越(yue)小，彈性越(yue)好，硬度越(yue)大(da)，抗(kang)(kang)彎(wan)抗(kang)(kang)壓強度越(yue)高，則耐沖擊就越(yue)好。我廠(chang)之玻(bo)璃層在(zai)規(gui)定厚度內，用直徑30mm，重量112g鋼球沖擊時，其沖擊功為282×10-3J（優等品指標(biao)為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷反應(ying)釜適(shi)用(yong)于(yu)石油(you)化(hua)工、橡膠、農藥、染料、醫(yi)藥等(deng)行(xing)業，用(yong)以完成磺(huang)化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚(ju)合(he)、縮合(he)等(deng)工藝(yi)過程(cheng)。

搪瓷反應(ying)(ying)(ying)釜工作(zuo)溫(wen)(wen)度較高(gao)(gao)，通常化學反應(ying)(ying)(ying)需要在一定的(de)溫(wen)(wen)度條件下才(cai)能進(jin)行(xing)，所以反應(ying)(ying)(ying)釜既(ji)承受(shou)壓力(li)又承受(shou)溫(wen)(wen)度。獲得(de)高(gao)(gao)溫(wen)(wen)的(de)方法通常有以下幾種：

1、水加溫

要(yao)求溫度不高時(shi)可采(cai)用，其加熱系(xi)統有(you)敞開式和密閉式兩種。敞開式較簡單，它由循(xun)環泵、水槽、管(guan)道及(ji)控(kong)制閥門(men)的(de)調節器所組成，當(dang)采(cai)用高壓水時(shi)，設備(bei)機械(xie)強度要(yao)求高，反(fan)應釜外表面焊上(shang)蛇(she)管(guan)，蛇(she)管(guan)與釜壁有(you)間隙，使熱阻增(zeng)加，傳熱效果降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在100℃以(yi)下時，可用(yong)一個大氣壓以(yi)下的蒸汽來加熱(re)；100~180℃范圍內(nei)，用(yong)飽和(he)蒸汽；當溫度更高時，可采用(yong)高壓過熱(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高(gao)溫(wen)下操(cao)作(zuo)或欲避免采用(yong)高(gao)壓的加熱系統(tong)時，可用(yong)其(qi)它介質(zhi)來代替水和蒸汽，如礦(kuang)物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚混合劑（沸(fei)點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏繞在反應釜筒體的(de)絕緣層上，或安(an)裝在離(li)反應釜若干距離(li)的(de)特設絕緣體上，因此，在電(dian)阻絲與反應釜體之(zhi)間形成了(le)不大的(de)空(kong)間間隙。

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