搪玻璃反應釜是(shi)將含高二氧化硅的(de)(de)玻璃，襯在鋼(gang)制(zhi)容器的(de)(de)內表(biao)面(mian)，經高溫灼燒而牢(lao)固地密著于金屬表(biao)面(mian)上成(cheng)為復合材(cai)料制(zhi)品。所以(yi)，是(shi)一(yi)種優良的(de)(de)耐腐(fu)蝕設備。

搪玻璃反應釜技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對各(ge)種(zhong)有(you)機(ji)酸、無機(ji)酸、有(you)機(ji)溶(rong)劑均有(you)較好的抗蝕性。如(ru)將(jiang)我(wo)廠生產(chan)的搪(tang)玻(bo)璃試樣置于20%HCI溶(rong)液中(zhong)煮(zhu)沸48h，腐蝕速率(lv)為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃對堿性溶(rong)液抗蝕(shi)性較酸溶(rong)液差。但將我廠搪玻(bo)璃試樣(yang)置于1N氫氧(yang)化鈉(na)溶(rong)液腐蝕(shi)，試驗溫度80℃時間48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進(jin)行。我廠(chang)制造(zao)的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的瓷層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜附件的瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具有良(liang)好的絕(jue)緣(yuan)性，當搪玻璃在規定厚(hou)度內用20KV高頻電火花檢查瓷(ci)層時，高頻電火花不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反(fan)應(ying)釜的玻(bo)璃層內(nei)應(ying)力(li)越(yue)小，彈性(xing)越(yue)好，硬度(du)越(yue)大，抗彎抗壓(ya)強度(du)越(yue)高(gao)，則耐沖(chong)擊(ji)就(jiu)越(yue)好。我廠之玻(bo)璃層在(zai)規定厚度(du)內(nei)，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)擊(ji)時(shi)，其沖(chong)擊(ji)功為282×10-3J（優等品指(zhi)標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷反應釜(fu)適(shi)用于石油化(hua)工(gong)、橡膠、農(nong)藥(yao)、染(ran)料(liao)、醫藥(yao)等行(xing)業(ye)，用以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚(ju)合、縮合等工(gong)藝過程。

搪瓷反應(ying)釜(fu)工作溫(wen)度較高，通常化(hua)學反應(ying)需要在一(yi)定的(de)溫(wen)度條件(jian)下(xia)才能(neng)進行，所以反應(ying)釜(fu)既承受壓(ya)力又承受溫(wen)度。獲(huo)得高溫(wen)的(de)方(fang)法通常有以下(xia)幾種：

1、水加溫

要求溫度(du)不高(gao)(gao)時(shi)可采用(yong)，其加(jia)(jia)熱系統有敞開式(shi)和密(mi)閉式(shi)兩(liang)種。敞開式(shi)較(jiao)簡單，它由循環(huan)泵、水槽、管(guan)道(dao)及控制(zhi)閥門的調節器所組成，當采用(yong)高(gao)(gao)壓水時(shi)，設備機(ji)械強度(du)要求高(gao)(gao)，反應釜外表面(mian)焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜壁有間隙，使熱阻增加(jia)(jia)，傳熱效果降(jiang)低(di)。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在(zai)100℃以下時，可(ke)(ke)用(yong)一(yi)個大氣(qi)壓以下的蒸(zheng)汽來加熱(re)；100~180℃范(fan)圍內，用(yong)飽和蒸(zheng)汽；當溫度更(geng)高(gao)時，可(ke)(ke)采(cai)用(yong)高(gao)壓過熱(re)蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要求必(bi)須(xu)在高溫下(xia)操作或(huo)欲避免采用高壓的加熱系統時，可用其它介質來代替水和(he)蒸汽，如(ru)礦物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚混(hun)合劑(ji)（沸點258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態鉛（熔(rong)點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)(dian)阻絲纏(chan)繞在(zai)(zai)(zai)反應釜筒體(ti)的絕緣層上，或安裝在(zai)(zai)(zai)離反應釜若(ruo)干距離的特設絕緣體(ti)上，因此，在(zai)(zai)(zai)電(dian)(dian)阻絲與反應釜體(ti)之間(jian)形成了不大的空(kong)間(jian)間(jian)隙(xi)。

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