搪玻璃反應釜是(shi)將含高(gao)二(er)氧(yang)化硅的(de)(de)玻璃，襯(chen)在(zai)鋼制容器(qi)的(de)(de)內表面(mian)，經高(gao)溫灼(zhuo)燒而牢固地密著于金屬表面(mian)上成為(wei)復合材料制品。所以，是(shi)一種優(you)良的(de)(de)耐腐蝕(shi)設備。

搪玻(bo)璃反(fan)應釜技術規范：

1、耐酸性：

對各種有機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有機(ji)溶劑均有較好的(de)抗(kang)蝕(shi)性。如將我(wo)廠生產的(de)搪玻璃試(shi)樣置于20%HCI溶液(ye)中煮沸(fei)48h，腐蝕(shi)速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對(dui)堿性(xing)溶液抗蝕性(xing)較酸溶液差(cha)。但將我廠搪玻璃(li)試樣置于(yu)1N氫氧化鈉(na)溶液腐(fu)(fu)蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐(fu)(fu)蝕速(su)率為(wei)6.76g/m2.d（優(you)等品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻(bo)璃反應釜加(jia)熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠(chang)制造的搪玻(bo)璃反應釜使用溫度為(wei)0－200℃，耐溫急變(bian)性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻(bo)璃反應釜附(fu)件的瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃具有良好的絕緣性，當(dang)搪(tang)玻璃在規定厚(hou)度內用20KV高(gao)頻電火(huo)花檢(jian)查瓷(ci)層(ceng)時，高(gao)頻電火(huo)花不能(neng)擊穿瓷(ci)層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪(tang)玻(bo)璃反應釜的玻(bo)璃層內(nei)應力越小(xiao)，彈性越好，硬度(du)越大，抗彎(wan)抗壓強度(du)越高，則耐沖(chong)擊就越好。我廠之(zhi)玻(bo)璃層在規(gui)定厚度(du)內(nei)，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)擊時，其(qi)沖(chong)擊功為282×10-3J（優(you)等品指標(biao)為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷反應釜適用于(yu)石(shi)油化(hua)工(gong)、橡膠、農藥、染料、醫藥等(deng)行業，用以完成(cheng)磺(huang)化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等(deng)工(gong)藝過(guo)程。

搪瓷反(fan)應(ying)釜工作溫度較高，通常化學反(fan)應(ying)需要(yao)在一定的溫度條件下才能進行，所以(yi)(yi)反(fan)應(ying)釜既(ji)承(cheng)受壓力又(you)承(cheng)受溫度。獲得高溫的方法通常有(you)以(yi)(yi)下幾種：

1、水加溫

要求溫度(du)不高(gao)時可(ke)采(cai)用(yong)，其加(jia)熱(re)系統有敞(chang)開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞(chang)開式(shi)較簡(jian)單，它由循環泵、水槽、管(guan)道及(ji)控制閥門的調節器所組成，當采(cai)用(yong)高(gao)壓(ya)水時，設備機械(xie)強度(du)要求高(gao)，反應(ying)釜外(wai)表(biao)面焊(han)上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜壁有間隙，使熱(re)阻增加(jia)，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)(jia)熱溫(wen)度(du)在100℃以(yi)下時，可(ke)用(yong)一(yi)個大氣壓(ya)以(yi)下的蒸汽(qi)來(lai)加(jia)(jia)熱；100~180℃范圍內，用(yong)飽(bao)和蒸汽(qi)；當溫(wen)度(du)更高(gao)時，可(ke)采用(yong)高(gao)壓(ya)過熱蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫下操作或欲避(bi)免采用高壓(ya)的加熱系統時，可(ke)用其它介質(zhi)來代替水(shui)和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔(rong)鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛(qian)（熔(rong)點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電阻絲纏繞在(zai)反應釜筒(tong)體(ti)的絕緣層上(shang)(shang)，或安裝在(zai)離反應釜若干距離的特設絕緣體(ti)上(shang)(shang)，因此，在(zai)電阻絲與反應釜體(ti)之間形成了不大的空間間隙。

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