搪瓷反應罐是將含高二氧化硅的玻璃，襯在鋼(gang)制容器的內表面，經高溫灼(zhuo)燒而牢固地密著于金屬表面上成為復合材料制品。所以，是一種優良的耐(nai)腐(fu)蝕設備。

搪瓷反應罐技術(shu)規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的(de)(de)抗蝕性。如將(jiang)我廠生產的(de)(de)搪玻璃試樣(yang)置于(yu)20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h，腐蝕速(su)率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)(li)對堿性(xing)溶(rong)液抗(kang)蝕(shi)性(xing)較酸溶(rong)液差。但將我廠搪玻璃(li)(li)試樣置于1N氫氧化鈉溶(rong)液腐蝕(shi)，試驗溫度80℃時間48h。腐蝕(shi)速(su)率為(wei)6.76g/m2.d（優等品(pin)指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度(du)為0－200℃，耐(nai)溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷反(fan)應(ying)罐的(de)瓷層(ceng)厚(hou)(hou)度(du)(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)應(ying)釜附件的(de)瓷層(ceng)厚(hou)(hou)度(du)(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具(ju)有良好的絕緣(yuan)性，當搪玻璃(li)在規定(ding)厚度(du)內(nei)用20KV高(gao)(gao)頻電(dian)火(huo)花檢(jian)查瓷(ci)(ci)層時，高(gao)(gao)頻電(dian)火(huo)花不能擊穿瓷(ci)(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪瓷(ci)反(fan)應(ying)罐的玻(bo)璃層內(nei)應(ying)力越小，彈性越好(hao)，硬度(du)越大(da)，抗(kang)彎(wan)抗(kang)壓強度(du)越高，則耐(nai)沖(chong)(chong)擊(ji)就越好(hao)。我廠之玻(bo)璃層在(zai)規定厚度(du)內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)(chong)擊(ji)時，其(qi)沖(chong)(chong)擊(ji)功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應(ying)釜適用于石油化(hua)(hua)工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等(deng)行業，用以完成磺化(hua)(hua)、硝(xiao)化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合(he)、縮合(he)等(deng)工藝過程。

搪瓷反(fan)應(ying)釜工作(zuo)溫(wen)度較高，通常(chang)化(hua)學反(fan)應(ying)需(xu)要在一定的(de)溫(wen)度條件下才能進行，所以反(fan)應(ying)釜既承受壓力又承受溫(wen)度。獲得高溫(wen)的(de)方法通常(chang)有(you)以下幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時(shi)(shi)可采用，其加熱系統有敞開式和(he)密閉(bi)式兩種。敞開式較簡單，它由循(xun)環泵、水(shui)槽、管(guan)道及控制閥門(men)的(de)調節器所(suo)組成，當采用高壓水(shui)時(shi)(shi)，設備(bei)機械強度要求高，反應釜外表面(mian)焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜壁有間(jian)隙，使熱阻增加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)(re)溫(wen)度在100℃以下(xia)時，可用一個(ge)大氣壓以下(xia)的蒸汽來(lai)加熱(re)(re)；100~180℃范圍(wei)內，用飽和蒸汽；當溫(wen)度更高時，可采用高壓過熱(re)(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必(bi)須在高溫(wen)下操作或(huo)欲避免采(cai)用高壓的(de)加熱(re)系統時，可用其它(ta)介(jie)質來代替水(shui)和蒸汽，如礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態鉛（熔(rong)點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻(zu)絲纏繞(rao)在(zai)反應(ying)釜(fu)筒體的(de)絕(jue)緣(yuan)層上，或(huo)安(an)裝(zhuang)在(zai)離反應(ying)釜(fu)若干距離的(de)特設絕(jue)緣(yuan)體上，因此，在(zai)電(dian)阻(zu)絲與反應(ying)釜(fu)體之間形成(cheng)了不大(da)的(de)空間間隙。

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