山(shan)東搪聯化(hua)工(gong)設備有限公司
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搪玻璃反應釜是(shi)將含高二氧化硅的玻璃,襯在鋼制容器(qi)的內表面,經高溫灼燒而牢固地密著于金屬(shu)表面上成為(wei)復(fu)合材料制品。所以,是(shi)一(yi)種優良的耐腐蝕(shi)設備。
搪玻璃反應釜(fu)技術規范(fan):
1、耐酸性:
對各種有(you)(you)機酸(suan)(suan)、無機酸(suan)(suan)、有(you)(you)機溶劑均(jun)有(you)(you)較好的抗(kang)蝕性(xing)。如(ru)將我(wo)廠生產的搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮沸(fei)48h,腐蝕速率為0.9lg/m2.d(優等(deng)品(pin)指標(biao)為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻璃對堿性溶液(ye)(ye)抗(kang)蝕(shi)性較(jiao)酸溶液(ye)(ye)差。但(dan)將我廠搪玻璃試(shi)樣置于(yu)1N氫(qing)氧化鈉溶液(ye)(ye)腐蝕(shi),試(shi)驗溫度80℃時間(jian)48h。腐蝕(shi)速(su)率為6.76g/m2.d(優等品指標(biao)為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
搪玻璃反應釜(fu)加熱和冷(leng)卻(que)時,應緩慢(man)進行。我廠(chang)制造的(de)搪玻璃反應釜(fu)使用(yong)溫度(du)為0-200℃,耐溫急變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
淄博搪玻璃反應釜的(de)瓷層厚(hou)度0.8-2.0mm,搪玻(bo)璃反應釜附件(jian)的(de)瓷層厚(hou)度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻(bo)璃(li)具有良好的絕緣(yuan)性,當搪玻(bo)璃(li)在規定厚度內(nei)用20KV高頻電火花(hua)(hua)檢查瓷層時(shi),高頻電火花(hua)(hua)不(bu)能(neng)擊穿瓷層。
6、耐沖擊性:
搪玻(bo)璃反應(ying)釜(fu)的玻(bo)璃層內(nei)應(ying)力越(yue)小(xiao),彈性越(yue)好,硬度越(yue)大(da),抗彎抗壓強(qiang)度越(yue)高(gao),則耐沖擊就越(yue)好。我廠之玻(bo)璃層在規定(ding)厚度內(nei),用直徑(jing)30mm,重量112g鋼球(qiu)沖擊時(shi),其沖擊功為282×10-3J(優等(deng)品(pin)指標為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷反應釜適用于(yu)石油化(hua)工、橡膠(jiao)、農藥(yao)、染(ran)料、醫藥(yao)等行業,用以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等工藝過程。
搪瓷(ci)反(fan)(fan)(fan)應(ying)釜(fu)工(gong)作溫(wen)(wen)(wen)度較(jiao)高,通常化學反(fan)(fan)(fan)應(ying)需(xu)要(yao)在一定的溫(wen)(wen)(wen)度條(tiao)件下才能進(jin)行,所以反(fan)(fan)(fan)應(ying)釜(fu)既承受(shou)(shou)壓力又承受(shou)(shou)溫(wen)(wen)(wen)度。獲得高溫(wen)(wen)(wen)的方法(fa)通常有以下幾種:
1、水加溫
要求溫度不高(gao)時可(ke)采用,其加熱系統有(you)敞開式和密(mi)閉式兩種。敞開式較簡單,它(ta)由循環泵、水槽、管(guan)道及控制(zhi)閥門的調節器所(suo)組(zu)成,當(dang)采用高(gao)壓水時,設備(bei)機械強度要求高(gao),反應釜外表面焊上蛇管(guan),蛇管(guan)與釜壁(bi)有(you)間隙,使熱阻增(zeng)加,傳(chuan)熱效果降低(di)。
2、蒸汽加熱
加熱(re)溫(wen)度在100℃以下(xia)時,可用(yong)一(yi)個大氣壓以下(xia)的蒸汽來加熱(re);100~180℃范圍內,用(yong)飽和蒸汽;當溫(wen)度更高時,可采用(yong)高壓過熱(re)蒸汽。
3、用其它介質加熱
若工藝要求必須在(zai)高溫(wen)下操作或欲(yu)避免采用高壓的加熱系統時,可(ke)用其它介質來代替水和蒸汽,如礦物油(275~300℃)、聯苯醚混合(he)劑(沸(fei)點(dian)258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態鉛(熔點(dian)327℃)等。
4、電加熱
將(jiang)電(dian)阻(zu)絲(si)纏繞在反應釜(fu)筒體的絕緣層(ceng)上,或(huo)安裝在離反應釜(fu)若干距離的特(te)設絕緣體上,因此,在電(dian)阻(zu)絲(si)與反應釜(fu)體之間形成了(le)不(bu)大的空(kong)間間隙。
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