搪玻璃反應釜是(shi)將含高(gao)二(er)氧化硅的玻(bo)璃(li)，襯(chen)在鋼制(zhi)容(rong)器的內表面(mian)(mian)，經高(gao)溫灼燒而牢固地密著于(yu)金屬表面(mian)(mian)上成為復合材(cai)料制(zhi)品(pin)。所以，是(shi)一種優良的耐腐(fu)蝕設(she)備。

搪玻璃反應(ying)釜(fu)技(ji)術規(gui)范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有機(ji)酸、無(wu)機(ji)酸、有機(ji)溶(rong)劑均(jun)有較好的(de)抗蝕(shi)性(xing)。如將我廠生產的(de)搪玻璃(li)試(shi)樣置(zhi)于20%HCI溶(rong)液中煮(zhu)沸48h，腐蝕(shi)速率(lv)為(wei)0.9lg/m2.d（優等品(pin)指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻(bo)璃對堿(jian)性溶(rong)液抗蝕(shi)性較酸溶(rong)液差。但將(jiang)我廠搪(tang)玻(bo)璃試樣置于1N氫氧化(hua)鈉溶(rong)液腐蝕(shi)，試驗溫度80℃時間48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻(bo)璃反應(ying)(ying)釜加(jia)熱和冷卻時，應(ying)(ying)緩慢(man)進行。我廠制造的搪玻(bo)璃反應(ying)(ying)釜使(shi)用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)應(ying)釜(fu)附件的瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具有良好的絕緣(yuan)性，當搪玻璃在規定厚度內用20KV高(gao)頻電(dian)火(huo)花檢查瓷層時，高(gao)頻電(dian)火(huo)花不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪(tang)玻璃反應(ying)釜的(de)玻璃層內(nei)應(ying)力(li)越小，彈性越好，硬度(du)越大，抗彎抗壓(ya)強度(du)越高，則耐沖擊(ji)就越好。我廠之玻璃層在規定(ding)厚(hou)度(du)內(nei)，用直徑(jing)30mm，重量112g鋼球沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適(shi)用(yong)(yong)于石油化工(gong)、橡膠、農藥(yao)、染(ran)料、醫藥(yao)等(deng)行業(ye)，用(yong)(yong)以完(wan)成磺化、硝化、氫化、烴化、聚合、縮合等(deng)工(gong)藝(yi)過程。

搪瓷反(fan)(fan)應釜工作溫度(du)較高，通常化學反(fan)(fan)應需要在一(yi)定的溫度(du)條件下才能進行，所以反(fan)(fan)應釜既(ji)承受壓力又承受溫度(du)。獲得高溫的方(fang)法通常有以下幾種：

1、水加溫

要求溫度(du)不高時可采用，其(qi)加熱系統(tong)有敞(chang)開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞(chang)開式(shi)較(jiao)簡(jian)單，它由循環(huan)泵、水(shui)槽、管(guan)道及控制閥(fa)門的調(diao)節器(qi)所組成，當(dang)采用高壓水(shui)時，設備機械強度(du)要求高，反應釜外表面焊(han)上蛇(she)管(guan)，蛇(she)管(guan)與(yu)釜壁有間(jian)隙，使熱阻增加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以(yi)下(xia)時，可用一(yi)個大氣壓以(yi)下(xia)的蒸汽(qi)(qi)來(lai)加熱；100~180℃范(fan)圍內，用飽和蒸汽(qi)(qi)；當(dang)溫度更高(gao)時，可采用高(gao)壓過熱蒸汽(qi)(qi)。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要求(qiu)必須在高溫下操作或欲(yu)避免采用(yong)高壓的加熱(re)系統時(shi)，可用(yong)其它(ta)介質來代替水和蒸汽(qi)，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚混(hun)合劑（沸點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻(zu)絲(si)纏繞在反應(ying)(ying)釜筒體的(de)絕緣(yuan)層上(shang)，或安裝在離反應(ying)(ying)釜若干距離的(de)特設絕緣(yuan)體上(shang)，因此，在電(dian)阻(zu)絲(si)與(yu)反應(ying)(ying)釜體之間形成了不大的(de)空間間隙。

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