搪玻璃反應罐是(shi)將含(han)高二氧化(hua)硅的(de)玻璃(li)，襯在鋼制容器的(de)內(nei)表面(mian)，經高溫灼(zhuo)燒而牢固地密著于金屬表面(mian)上成為復(fu)合材料制品。所以，是(shi)一種優良(liang)的(de)耐腐蝕設備。

搪玻璃反應罐技(ji)術規(gui)范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸(suan)、無機酸(suan)、有(you)機溶劑均(jun)有(you)較好的(de)抗蝕性。如將我(wo)廠生產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻璃(li)對堿(jian)性溶(rong)液抗(kang)蝕性較(jiao)酸溶(rong)液差。但將我廠(chang)搪(tang)玻璃(li)試樣置于1N氫(qing)氧化鈉(na)溶(rong)液腐(fu)蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐(fu)蝕速率(lv)為6.76g/m2.d（優(you)等(deng)品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為(wei)0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的瓷(ci)層(ceng)(ceng)厚度0.8-2.0mm，搪玻璃(li)反應釜附件(jian)的瓷(ci)層(ceng)(ceng)厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃具(ju)有良好的絕緣性，當(dang)搪(tang)玻璃在規定厚度內用20KV高頻電(dian)(dian)火(huo)(huo)花(hua)檢查(cha)瓷層(ceng)時，高頻電(dian)(dian)火(huo)(huo)花(hua)不能(neng)擊穿瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反(fan)應罐(guan)的玻璃層內應力越(yue)小，彈性(xing)越(yue)好(hao)，硬度(du)越(yue)大，抗彎抗壓(ya)強度(du)越(yue)高，則耐沖擊就越(yue)好(hao)。我廠之玻璃層在規定厚度(du)內，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球沖擊時，其沖擊功(gong)為282×10-3J（優等(deng)品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應釜適用于(yu)石油化(hua)(hua)工、橡(xiang)膠、農藥、染料(liao)、醫藥等行業，用以完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合、縮合等工藝(yi)過程。

搪瓷(ci)反應釜(fu)工作溫(wen)(wen)度較(jiao)高，通常化學反應需(xu)要在(zai)一定的溫(wen)(wen)度條件(jian)下(xia)才能進行(xing)，所以(yi)反應釜(fu)既承受壓(ya)力又承受溫(wen)(wen)度。獲得高溫(wen)(wen)的方法通常有以(yi)下(xia)幾種(zhong)：

1、水加溫

要(yao)求溫度不高時可采(cai)用，其加(jia)熱(re)系統有敞開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞開式(shi)較簡單，它由循環泵、水(shui)槽、管(guan)(guan)道及(ji)控制閥(fa)門的(de)調節器(qi)所組成，當采(cai)用高壓(ya)水(shui)時，設備(bei)機(ji)械(xie)強度要(yao)求高，反應釜外表(biao)面焊(han)上(shang)蛇管(guan)(guan)，蛇管(guan)(guan)與釜壁有間隙，使(shi)熱(re)阻增加(jia)，傳熱(re)效(xiao)果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫(wen)度(du)在100℃以下時(shi)，可用一個大(da)氣壓(ya)以下的(de)蒸(zheng)汽(qi)來加熱(re)；100~180℃范圍內，用飽(bao)和蒸(zheng)汽(qi)；當溫(wen)度(du)更高時(shi)，可采用高壓(ya)過熱(re)蒸(zheng)汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝(yi)要求必須在高(gao)溫下操作或欲避免采用高(gao)壓的加熱系統時(shi)，可用其它介質來代(dai)替水(shui)和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚(mi)混合劑（沸點258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態鉛（熔(rong)點327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電阻絲(si)纏(chan)繞在(zai)(zai)反應釜筒體(ti)(ti)的(de)絕緣層上，或安裝在(zai)(zai)離(li)反應釜若干距離(li)的(de)特設絕緣體(ti)(ti)上，因此，在(zai)(zai)電阻絲(si)與反應釜體(ti)(ti)之(zhi)間(jian)(jian)形成了不大的(de)空間(jian)(jian)間(jian)(jian)隙。

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