搪玻璃反應罐是(shi)將含高(gao)二(er)氧化硅(gui)的(de)玻璃(li)，襯在鋼制容器的(de)內表面(mian)，經高(gao)溫灼燒而牢固地密著(zhu)于金(jin)屬表面(mian)上成(cheng)為復(fu)合材(cai)料(liao)制品。所以，是(shi)一種優良的(de)耐腐蝕設備(bei)。

搪玻(bo)璃反應罐技術規范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好(hao)的抗蝕(shi)性。如將(jiang)我(wo)廠生產的搪玻(bo)璃試樣(yang)置于20%HCI溶液(ye)中煮沸48h，腐蝕(shi)速(su)率為(wei)0.9lg/m2.d（優(you)等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性溶液抗蝕性較酸溶液差。但將我廠搪玻璃試樣(yang)置于1N氫氧(yang)化鈉溶液腐(fu)蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐(fu)蝕速率為(wei)6.76g/m2.d（優等品指(zhi)標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用溫度為0－200℃，耐溫急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷(ci)(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反應(ying)釜附件的(de)瓷(ci)(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)(li)具有(you)良好的絕緣性，當搪玻璃(li)(li)在(zai)規(gui)定(ding)厚度內(nei)用(yong)20KV高(gao)(gao)頻電(dian)火花(hua)檢查瓷(ci)層時，高(gao)(gao)頻電(dian)火花(hua)不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應罐的(de)玻璃層內(nei)應力越(yue)小，彈性(xing)越(yue)好，硬度越(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓(ya)強度越(yue)高，則耐沖(chong)(chong)(chong)擊(ji)就(jiu)越(yue)好。我廠之(zhi)玻璃層在規定厚(hou)度內(nei)，用直(zhi)徑(jing)30mm，重(zhong)量112g鋼(gang)球沖(chong)(chong)(chong)擊(ji)時，其沖(chong)(chong)(chong)擊(ji)功(gong)為(wei)282×10-3J（優(you)等品指標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應(ying)釜(fu)適用于石油化工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行(xing)業，用以(yi)完成磺化、硝化、氫化、烴(jing)化、聚合、縮合等工藝過程。

搪瓷反應(ying)釜工作溫(wen)度(du)較高，通常化學反應(ying)需要(yao)在一(yi)定(ding)的(de)溫(wen)度(du)條(tiao)件下才能(neng)進行，所以反應(ying)釜既承(cheng)受壓力又承(cheng)受溫(wen)度(du)。獲得高溫(wen)的(de)方法(fa)通常有以下幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時可采用，其加(jia)熱(re)系統有敞(chang)開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞(chang)開式(shi)較簡單，它由循環(huan)泵、水槽、管(guan)道(dao)及控制閥門的調節器所(suo)組(zu)成，當(dang)采用高壓水時，設備機(ji)械強度要求高，反(fan)應(ying)釜外表面焊(han)上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜壁有間隙，使(shi)熱(re)阻增加(jia)，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度(du)在100℃以下時，可用一個(ge)大氣(qi)壓(ya)(ya)以下的蒸汽(qi)來(lai)加熱；100~180℃范圍(wei)內(nei)，用飽和(he)蒸汽(qi)；當溫度(du)更高時，可采用高壓(ya)(ya)過熱蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高(gao)溫(wen)下操作或欲避免采用(yong)高(gao)壓的加(jia)熱系(xi)統時(shi)，可(ke)用(yong)其它介質來(lai)代替水和蒸(zheng)汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯(ben)醚混合劑(ji)（沸點(dian)258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔(rong)點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)絲(si)纏繞在(zai)反應(ying)釜(fu)筒體的(de)(de)絕緣層上(shang)，或(huo)安裝在(zai)離反應(ying)釜(fu)若(ruo)干距離的(de)(de)特設絕緣體上(shang)，因此，在(zai)電阻(zu)絲(si)與反應(ying)釜(fu)體之間形(xing)成(cheng)了不大的(de)(de)空間間隙(xi)。

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