搪玻璃反應罐是將含高二氧化硅的(de)玻璃，襯在鋼(gang)制(zhi)容器(qi)的(de)內(nei)表面，經高溫灼燒而牢(lao)固地密著于金屬表面上成為(wei)復合材料制(zhi)品。所以，是一(yi)種優良的(de)耐腐蝕(shi)設備。

搪玻璃反應罐技術規(gui)范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有(you)機(ji)溶(rong)劑(ji)均有(you)較好(hao)的抗(kang)蝕性。如(ru)將我廠生產的搪(tang)玻璃(li)試樣(yang)置于(yu)20%HCI溶(rong)液(ye)中煮沸48h，腐蝕速(su)率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)(bo)璃對堿性(xing)溶(rong)液抗蝕(shi)性(xing)較酸溶(rong)液差(cha)。但將我廠(chang)搪玻(bo)(bo)璃試樣置于1N氫氧化鈉溶(rong)液腐(fu)(fu)蝕(shi)，試驗溫度80℃時(shi)間48h。腐(fu)(fu)蝕(shi)速率(lv)為6.76g/m2.d（優(you)等(deng)品指(zhi)標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變(bian)性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的瓷層(ceng)厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃(li)反應釜附件的瓷層(ceng)厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具(ju)有(you)良好的(de)絕緣性，當(dang)搪玻璃在規定(ding)厚度內用20KV高(gao)頻(pin)電(dian)火(huo)(huo)花(hua)檢(jian)查(cha)瓷(ci)層時，高(gao)頻(pin)電(dian)火(huo)(huo)花(hua)不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反應(ying)罐(guan)的(de)玻(bo)璃層(ceng)(ceng)內應(ying)力越(yue)小，彈性越(yue)好(hao)，硬(ying)度(du)越(yue)大，抗彎抗壓強度(du)越(yue)高，則耐沖擊就越(yue)好(hao)。我(wo)廠之玻(bo)璃層(ceng)(ceng)在規定(ding)厚度(du)內，用直徑30mm，重量112g鋼球沖擊時，其沖擊功為(wei)282×10-3J（優等品指(zhi)標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷(ci)反應(ying)釜適用于石(shi)油化(hua)工(gong)、橡膠、農藥、染料、醫藥等行業，用以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴(jing)化(hua)、聚合(he)(he)、縮合(he)(he)等工(gong)藝過程(cheng)。

搪(tang)瓷反應釜工作溫(wen)(wen)度較高，通常化學(xue)反應需要(yao)在(zai)一定的溫(wen)(wen)度條(tiao)件下(xia)才能進(jin)行，所以反應釜既承受壓力又(you)承受溫(wen)(wen)度。獲得高溫(wen)(wen)的方法通常有以下(xia)幾(ji)種(zhong)：

1、水加溫

要求(qiu)溫度(du)不高時可采用(yong)，其加熱(re)系統有(you)敞開式和(he)密閉式兩(liang)種。敞開式較簡(jian)單，它由循(xun)環泵、水槽、管(guan)道及(ji)控(kong)制閥門的調節器所(suo)組成，當采用(yong)高壓(ya)水時，設備機械(xie)強(qiang)度(du)要求(qiu)高，反應釜外表面焊(han)上蛇(she)管(guan)，蛇(she)管(guan)與釜壁(bi)有(you)間隙(xi)，使熱(re)阻增加，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在100℃以(yi)下時，可用一個大(da)氣壓以(yi)下的蒸(zheng)汽(qi)來加熱(re)；100~180℃范圍(wei)內(nei)，用飽和(he)蒸(zheng)汽(qi)；當溫度更高(gao)時，可采用高(gao)壓過熱(re)蒸(zheng)汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝(yi)要求必須在高溫下操作或欲避免采用高壓的加熱系統時(shi)，可用其(qi)它(ta)介(jie)質來代替水和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚(mi)混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲(si)纏繞在(zai)反(fan)應(ying)釜筒體(ti)的(de)(de)絕緣層上(shang)，或安裝在(zai)離(li)反(fan)應(ying)釜若(ruo)干距離(li)的(de)(de)特設絕緣體(ti)上(shang)，因此，在(zai)電(dian)阻絲(si)與反(fan)應(ying)釜體(ti)之間形成了不大的(de)(de)空間間隙。

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