搪瓷反應釜是將含高二氧化硅的(de)玻璃，襯在(zai)鋼制容(rong)器的(de)內表面，經高溫灼燒而牢固地密著于金屬表面上(shang)成為(wei)復合材料制品(pin)。所以，是一種優良的(de)耐腐蝕設(she)備。

搪瓷反應(ying)釜技術(shu)規范：

1、耐酸性：

對(dui)各種有機(ji)(ji)(ji)酸、無機(ji)(ji)(ji)酸、有機(ji)(ji)(ji)溶劑均有較好(hao)的抗蝕(shi)性。如(ru)將(jiang)我廠生產的搪玻(bo)璃試(shi)樣置于20%HCI溶液(ye)中煮(zhu)沸48h，腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d（優(you)等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻(bo)璃(li)對堿性(xing)溶(rong)液(ye)抗蝕(shi)(shi)性(xing)較酸溶(rong)液(ye)差(cha)。但(dan)將(jiang)我廠搪(tang)玻(bo)璃(li)試樣置于(yu)1N氫氧化鈉溶(rong)液(ye)腐蝕(shi)(shi)，試驗溫度(du)80℃時間48h。腐蝕(shi)(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用溫度為(wei)0－200℃，耐溫急(ji)變(bian)性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷(ci)反(fan)應(ying)釜的瓷(ci)層厚度(du)0.8-2.0mm，搪(tang)玻(bo)璃反(fan)應(ying)釜附(fu)件的瓷(ci)層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具有良好的絕緣(yuan)性，當搪玻(bo)璃在規定厚度內用20KV高頻電火花檢(jian)查(cha)瓷(ci)層時(shi)，高頻電火花不能擊穿(chuan)瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃(li)反應(ying)釜(fu)的玻(bo)璃(li)層內應(ying)力越小，彈性越好(hao)，硬(ying)度越大，抗彎抗壓強度越高，則(ze)耐沖擊(ji)就越好(hao)。我廠之(zhi)玻(bo)璃(li)層在規定厚度內，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為282×10-3J（優(you)等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜(fu)應用領域：

搪瓷反應釜適用(yong)于(yu)石油(you)化工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業，用(yong)以完成磺(huang)化、硝化、氫化、烴化、聚合、縮合等工藝過(guo)程。

搪瓷反(fan)(fan)應(ying)釜工作溫(wen)(wen)度較高，通常化學反(fan)(fan)應(ying)需要(yao)在一(yi)定的(de)溫(wen)(wen)度條件下才能(neng)進(jin)行，所以反(fan)(fan)應(ying)釜既(ji)承受壓力又承受溫(wen)(wen)度。獲(huo)得高溫(wen)(wen)的(de)方(fang)法通常有以下幾種：

1、水加溫

要求(qiu)溫度(du)不高(gao)時可采用(yong)，其加熱(re)系統有(you)敞開式和密(mi)閉(bi)式兩種(zhong)。敞開式較簡單，它由循環泵(beng)、水(shui)槽、管道及控制閥門的調節器所(suo)組成，當采用(yong)高(gao)壓水(shui)時，設備機械強度(du)要求(qiu)高(gao)，反應(ying)釜外表面焊(han)上蛇(she)管，蛇(she)管與釜壁(bi)有(you)間隙(xi)，使熱(re)阻(zu)增加，傳(chuan)熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫度在100℃以(yi)下(xia)時，可用一個大氣壓以(yi)下(xia)的蒸汽(qi)來加(jia)熱(re)；100~180℃范圍內(nei)，用飽和(he)蒸汽(qi)；當溫度更高時，可采用高壓過熱(re)蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要求必須在高(gao)溫下(xia)操作或欲(yu)避免采用高(gao)壓(ya)的加(jia)熱系(xi)統時，可用其它介質來(lai)代(dai)替水和(he)蒸汽(qi)，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)絲纏繞在(zai)反(fan)(fan)應釜筒體的絕緣層上，或安裝在(zai)離(li)反(fan)(fan)應釜若干距(ju)離(li)的特設(she)絕緣體上，因此，在(zai)電阻(zu)絲與反(fan)(fan)應釜體之間形成了不大的空間間隙(xi)。

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