搪玻璃反應罐是將含高(gao)二氧化硅的玻璃(li)，襯在鋼(gang)制容器的內(nei)表面，經高(gao)溫灼燒而牢固(gu)地(di)密著(zhu)于金屬表面上成(cheng)為(wei)復合(he)材料制品(pin)。所以，是一種優良(liang)的耐腐蝕(shi)設備(bei)。

搪玻璃反應罐技術規(gui)范：

1、耐酸性：

對各(ge)種有機酸(suan)、無機酸(suan)、有機溶劑均有較好的(de)抗蝕性。如將我廠生(sheng)產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮(zhu)沸(fei)48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優(you)等品指(zhi)標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性溶液(ye)抗蝕性較(jiao)酸溶液(ye)差。但將(jiang)我(wo)廠搪玻璃試樣置于1N氫氧化鈉溶液(ye)腐(fu)蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐(fu)蝕速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的瓷層(ceng)厚(hou)度(du)0.8-2.0mm，搪玻(bo)璃反(fan)應釜附(fu)件的瓷層(ceng)厚(hou)度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具(ju)有良好的絕緣性，當(dang)搪玻璃(li)在規定(ding)厚(hou)度內用20KV高(gao)頻(pin)電火花(hua)檢查瓷(ci)(ci)層時，高(gao)頻(pin)電火花(hua)不(bu)能擊穿瓷(ci)(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反應罐的玻(bo)璃層內應力(li)越(yue)小，彈性越(yue)好，硬(ying)度(du)越(yue)大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度(du)越(yue)高，則耐(nai)沖(chong)擊(ji)就越(yue)好。我廠之玻(bo)璃層在規定(ding)厚(hou)度(du)內，用直徑30mm，重量112g鋼球(qiu)沖(chong)擊(ji)時，其沖(chong)擊(ji)功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適(shi)用于石油化(hua)工(gong)、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等(deng)(deng)行業(ye)，用以完(wan)成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等(deng)(deng)工(gong)藝過程。

搪(tang)瓷反應(ying)(ying)釜(fu)工作(zuo)溫度較高，通(tong)常化學反應(ying)(ying)需要在一定的溫度條件下才能(neng)進行，所以反應(ying)(ying)釜(fu)既承受壓力又承受溫度。獲(huo)得高溫的方(fang)法通(tong)常有以下幾種：

1、水加溫

要(yao)求(qiu)(qiu)溫度不高(gao)時可(ke)采用，其加(jia)熱(re)系統有敞開(kai)式和密閉式兩種。敞開(kai)式較簡單，它由循環(huan)泵、水(shui)槽、管道及(ji)控(kong)制閥(fa)門的調節器所組成(cheng)，當采用高(gao)壓水(shui)時，設備機械強(qiang)度要(yao)求(qiu)(qiu)高(gao)，反應釜外(wai)表面焊上蛇(she)管，蛇(she)管與釜壁有間隙(xi)，使熱(re)阻增加(jia)，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱溫度在100℃以下時，可(ke)用一個大(da)氣壓以下的蒸汽(qi)來(lai)加(jia)熱；100~180℃范圍內，用飽和蒸汽(qi)；當溫度更高時，可(ke)采用高壓過熱蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝(yi)要求必須在高溫(wen)下操作或欲(yu)避免采用(yong)高壓的加熱系(xi)統(tong)時，可用(yong)其它介質來代替(ti)水和蒸汽，如礦(kuang)物油（275～300℃）、聯苯醚(mi)混(hun)合劑（沸點258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)絲(si)纏繞在(zai)(zai)(zai)反應釜(fu)筒(tong)體(ti)的絕(jue)緣層上(shang)，或(huo)安(an)裝(zhuang)在(zai)(zai)(zai)離(li)反應釜(fu)若(ruo)干距離(li)的特(te)設絕(jue)緣體(ti)上(shang)，因此，在(zai)(zai)(zai)電阻(zu)絲(si)與反應釜(fu)體(ti)之(zhi)間形成了不大(da)的空間間隙。

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