搪玻璃反應罐是將含高二氧化(hua)硅的玻璃，襯在鋼(gang)制容器的內表面，經高溫灼燒而牢固(gu)地密著(zhu)于金屬表面上成為復(fu)合材料制品。所以，是一種優(you)良的耐(nai)腐蝕(shi)設(she)備。

搪玻璃反(fan)應罐技術規(gui)范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有機酸(suan)、無機酸(suan)、有機溶劑均有較好的抗蝕性。如將我廠(chang)生(sheng)產的搪(tang)玻璃試樣置于20%HCI溶液(ye)中煮(zhu)沸48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿(jian)性溶液抗蝕(shi)(shi)性較酸溶液差(cha)。但將(jiang)我(wo)廠搪玻璃(li)試(shi)樣置(zhi)于1N氫氧(yang)化鈉溶液腐(fu)蝕(shi)(shi)，試(shi)驗(yan)溫度(du)80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)(shi)速率為(wei)6.76g/m2.d（優(you)等品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用溫度(du)為(wei)0－200℃，耐溫急變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷層(ceng)厚(hou)度0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜(fu)附件的(de)瓷層(ceng)厚(hou)度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具有良好(hao)的絕緣性(xing)，當搪玻璃在規(gui)定厚度內用20KV高(gao)頻電火花檢查瓷(ci)層時，高(gao)頻電火花不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)(bo)璃反(fan)應罐的玻(bo)(bo)璃層(ceng)內應力越(yue)(yue)小，彈性越(yue)(yue)好，硬度越(yue)(yue)大，抗彎(wan)抗壓強(qiang)度越(yue)(yue)高，則耐沖擊(ji)就越(yue)(yue)好。我廠(chang)之玻(bo)(bo)璃層(ceng)在(zai)規定厚度內，用直徑30mm，重(zhong)量112g鋼球(qiu)沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為(wei)282×10-3J（優等(deng)品指標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷(ci)反應(ying)釜(fu)適用(yong)于石油化工、橡膠、農藥、染料、醫藥等行業，用(yong)以完成磺化、硝化、氫化、烴化、聚合(he)、縮合(he)等工藝過(guo)程(cheng)。

搪瓷反(fan)應(ying)釜工作溫(wen)(wen)度較(jiao)高(gao)，通(tong)常化學反(fan)應(ying)需要在一(yi)定(ding)的溫(wen)(wen)度條件(jian)下(xia)才能進行，所以反(fan)應(ying)釜既承(cheng)受壓力又承(cheng)受溫(wen)(wen)度。獲得(de)高(gao)溫(wen)(wen)的方法通(tong)常有以下(xia)幾種：

1、水加溫

要(yao)求溫度不高時可采用，其加熱系統有敞(chang)開(kai)式和密閉(bi)式兩種。敞(chang)開(kai)式較(jiao)簡單，它由(you)循環泵、水槽(cao)、管道及控制閥門的調節器所組成，當采用高壓水時，設備機械(xie)強度要(yao)求高，反(fan)應釜(fu)外(wai)表面(mian)焊上蛇(she)(she)管，蛇(she)(she)管與釜(fu)壁有間隙，使熱阻(zu)增加，傳(chuan)熱效果降(jiang)低(di)。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以下時(shi)(shi)，可用一個大氣壓以下的蒸(zheng)汽來加熱；100~180℃范(fan)圍內，用飽和蒸(zheng)汽；當溫度更高時(shi)(shi)，可采(cai)用高壓過熱蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須(xu)在高(gao)溫下操作或欲避(bi)免(mian)采用(yong)高(gao)壓(ya)的加熱系(xi)統時，可用(yong)其它介質來(lai)代替水和蒸汽，如礦(kuang)物油(you)（275～300℃）、聯苯醚(mi)混(hun)合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電阻(zu)絲纏繞在反應(ying)(ying)釜(fu)筒體(ti)的絕緣(yuan)層上，或(huo)安裝在離反應(ying)(ying)釜(fu)若(ruo)干距離的特設絕緣(yuan)體(ti)上，因此(ci)，在電阻(zu)絲與(yu)反應(ying)(ying)釜(fu)體(ti)之間形成(cheng)了(le)不大的空間間隙。

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