搪玻璃反應釜是將含(han)高二氧化(hua)硅的(de)玻璃，襯在(zai)鋼制(zhi)容(rong)器(qi)的(de)內表(biao)面(mian)，經高溫(wen)灼(zhuo)燒而牢固地密著(zhu)于金(jin)屬表(biao)面(mian)上成為(wei)復合(he)材料制(zhi)品。所以，是一(yi)種優良(liang)的(de)耐(nai)腐(fu)蝕設備。

搪(tang)玻璃(li)反應釜技術規(gui)范(fan)：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好(hao)的抗蝕(shi)性。如將我廠生(sheng)產的搪玻璃(li)試樣置于20%HCI溶液(ye)中煮沸(fei)48h，腐蝕(shi)速率(lv)為(wei)(wei)0.9lg/m2.d（優(you)等品指標為(wei)(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性溶液(ye)抗蝕性較酸溶液(ye)差。但將(jiang)我廠搪玻璃試樣置于1N氫氧化鈉溶液(ye)腐蝕，試驗溫(wen)度80℃時間48h。腐蝕速率為6.76g/m2.d（優等品指(zhi)標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪(tang)玻璃反(fan)應(ying)釜(fu)加熱和(he)冷卻時，應(ying)緩慢進(jin)行。我(wo)廠制造的搪(tang)玻璃反(fan)應(ying)釜(fu)使用溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的(de)瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反(fan)應釜附(fu)件的(de)瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃(li)具有良好的(de)絕(jue)緣性(xing)，當搪玻(bo)璃(li)在(zai)規定厚度內用20KV高頻電火花檢查瓷層時，高頻電火花不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃(li)反應釜的玻璃(li)層內應力越(yue)小，彈(dan)性越(yue)好，硬度(du)越(yue)大，抗彎抗壓強度(du)越(yue)高，則(ze)耐沖(chong)擊就(jiu)越(yue)好。我廠之(zhi)玻璃(li)層在規定厚度(du)內，用(yong)直徑30mm，重(zhong)量112g鋼球沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功為282×10-3J（優等品(pin)指(zhi)標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷(ci)反應釜適用于石(shi)油化(hua)工、橡膠(jiao)、農藥(yao)、染(ran)料、醫(yi)藥(yao)等行業，用以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚(ju)合、縮合等工藝(yi)過(guo)程。

搪瓷反應釜工作溫(wen)度較(jiao)高，通(tong)常化學反應需要在一定的(de)溫(wen)度條(tiao)件下才(cai)能進行，所以反應釜既(ji)承(cheng)受(shou)壓(ya)力(li)又承(cheng)受(shou)溫(wen)度。獲得(de)高溫(wen)的(de)方法通(tong)常有(you)以下幾(ji)種：

1、水加溫

要求(qiu)溫度(du)不高(gao)時可(ke)采用(yong)，其加熱系統有敞開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞開式(shi)較簡單，它由(you)循環泵(beng)、水槽、管道(dao)及控制閥(fa)門的(de)調節器(qi)所組(zu)成，當采用(yong)高(gao)壓(ya)水時，設備機械(xie)強(qiang)度(du)要求(qiu)高(gao)，反應(ying)釜(fu)外表面焊上蛇管，蛇管與釜(fu)壁有間隙，使熱阻增加，傳熱效(xiao)果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在100℃以下時，可用(yong)(yong)一個大氣壓(ya)以下的蒸(zheng)(zheng)汽來加熱(re)；100~180℃范圍內(nei)，用(yong)(yong)飽和(he)蒸(zheng)(zheng)汽；當(dang)溫度更高時，可采用(yong)(yong)高壓(ya)過熱(re)蒸(zheng)(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要(yao)求必須(xu)在高溫下操作(zuo)或欲避免采(cai)用(yong)高壓的加熱系統時，可用(yong)其它介質來代(dai)替水(shui)和蒸汽，如(ru)礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏繞(rao)在反應(ying)釜筒體(ti)的絕緣層上(shang)，或(huo)安(an)裝在離反應(ying)釜若干距離的特設絕緣體(ti)上(shang)，因此(ci)，在電(dian)阻絲與(yu)反應(ying)釜體(ti)之間形成了不大的空間間隙。

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