搪玻璃反應釜是(shi)將含高(gao)二氧化硅的(de)(de)玻(bo)璃，襯(chen)在鋼制容器的(de)(de)內表面，經高(gao)溫灼燒而(er)牢固地密著于金屬表面上成為復合材料制品。所以，是(shi)一種優良的(de)(de)耐腐(fu)蝕設備。

搪玻璃反應釜技(ji)術規范：

1、耐酸性：

對各種有機酸、無機酸、有機溶(rong)劑均有較好的抗蝕(shi)性(xing)。如將(jiang)我(wo)廠生產(chan)的搪玻璃試樣置于20%HCI溶(rong)液中煮(zhu)沸48h，腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對堿性溶(rong)液(ye)抗蝕性較(jiao)酸(suan)溶(rong)液(ye)差。但將我廠搪玻璃試樣置于1N氫氧化鈉溶(rong)液(ye)腐(fu)蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐(fu)蝕速率為(wei)6.76g/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應(ying)釜(fu)加(jia)熱和(he)冷卻時(shi)，應(ying)緩(huan)慢(man)進行(xing)。我廠制造(zao)的搪玻璃反應(ying)釜(fu)使用溫度(du)為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的(de)(de)瓷層(ceng)厚度(du)(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反應(ying)釜(fu)附件的(de)(de)瓷層(ceng)厚度(du)(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃具有良(liang)好(hao)的絕(jue)緣性，當(dang)搪玻璃在(zai)規定厚度內(nei)用20KV高頻電火(huo)花檢查瓷層時，高頻電火(huo)花不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應釜的玻璃層內應力越小，彈性越好，硬度越大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度越高(gao)，則(ze)耐沖擊(ji)就越好。我(wo)廠之玻璃層在規定厚度內，用(yong)直(zhi)徑(jing)30mm，重量112g鋼球(qiu)沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功(gong)為282×10-3J（優等品指(zhi)標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷(ci)反應(ying)釜適用于石(shi)油(you)化(hua)工(gong)、橡膠、農(nong)藥、染料、醫藥等行業，用以完成(cheng)磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等工(gong)藝過程。

搪瓷反應釜工作溫(wen)度較高，通常(chang)化學反應需要在一定的溫(wen)度條件下(xia)(xia)才能進行，所以(yi)(yi)反應釜既承受壓力又(you)承受溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方法通常(chang)有以(yi)(yi)下(xia)(xia)幾種：

1、水加溫

要(yao)求(qiu)溫度(du)不高(gao)時(shi)可(ke)采(cai)用(yong)，其加熱(re)系統有敞開式(shi)(shi)和密閉式(shi)(shi)兩種。敞開式(shi)(shi)較簡單，它(ta)由循環泵、水(shui)槽、管(guan)道及控制(zhi)閥門(men)的調(diao)節(jie)器所組(zu)成(cheng)，當采(cai)用(yong)高(gao)壓水(shui)時(shi)，設(she)備(bei)機械(xie)強度(du)要(yao)求(qiu)高(gao)，反應釜(fu)(fu)外表面焊上蛇(she)管(guan)，蛇(she)管(guan)與釜(fu)(fu)壁有間隙(xi)，使熱(re)阻增加，傳(chuan)熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以(yi)下時，可用(yong)(yong)一個大氣壓(ya)以(yi)下的(de)蒸汽(qi)(qi)來加熱；100~180℃范(fan)圍內，用(yong)(yong)飽和蒸汽(qi)(qi)；當溫度更(geng)高時，可采用(yong)(yong)高壓(ya)過熱蒸汽(qi)(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫下(xia)操作(zuo)或欲避免采用(yong)高壓的(de)加熱系(xi)統時，可(ke)用(yong)其它介質來代替水和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯(ben)醚混合劑(ji)（沸點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液(ye)態(tai)鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏繞在(zai)(zai)反應(ying)(ying)釜筒體的(de)絕緣層上，或安裝(zhuang)在(zai)(zai)離反應(ying)(ying)釜若干(gan)距離的(de)特設絕緣體上，因此，在(zai)(zai)電(dian)阻絲與反應(ying)(ying)釜體之間形成了不大的(de)空間間隙。

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