山東(dong)搪聯化工設備有(you)限公司
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搪玻璃反應釜是將含(han)高(gao)(gao)二氧化硅(gui)的玻璃,襯(chen)在鋼制容器的內(nei)表面,經高(gao)(gao)溫灼燒(shao)而牢(lao)固地密著于金屬表面上成為復合(he)材料制品。所以,是一種優良的耐腐(fu)蝕(shi)設備。
搪(tang)玻璃反(fan)應釜技術(shu)規范:
1、耐酸性:
對各種有機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有機(ji)溶劑均有較(jiao)好的(de)(de)抗蝕(shi)性。如將(jiang)我廠(chang)生產(chan)的(de)(de)搪(tang)玻璃試樣置于20%HCI溶液中煮沸48h,腐蝕(shi)速率為(wei)0.9lg/m2.d(優等品指標(biao)為(wei)1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪(tang)玻(bo)璃對堿(jian)性溶(rong)液抗蝕(shi)性較酸溶(rong)液差。但將我廠搪(tang)玻(bo)璃試樣置(zhi)于1N氫氧化(hua)鈉溶(rong)液腐蝕(shi),試驗(yan)溫(wen)度(du)80℃時間48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d(優等品指標(biao)為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
搪(tang)玻璃(li)反應(ying)釜加(jia)熱和(he)冷卻時,應(ying)緩慢進行。我(wo)廠制造的搪(tang)玻璃(li)反應(ying)釜使用溫度(du)為0-200℃,耐(nai)溫急變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
淄博搪玻璃反應釜的瓷層(ceng)厚度0.8-2.0mm,搪玻璃反應(ying)釜附(fu)件的瓷層(ceng)厚度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪(tang)玻璃(li)(li)具(ju)有良(liang)好的絕緣性,當搪(tang)玻璃(li)(li)在規定厚度(du)內用20KV高頻電火花檢查瓷層時,高頻電火花不能擊穿瓷層。
6、耐沖擊性:
搪玻璃(li)反應釜的(de)玻璃(li)層內應力越(yue)小,彈性越(yue)好,硬(ying)度(du)越(yue)大,抗彎抗壓強度(du)越(yue)高,則(ze)耐(nai)沖擊(ji)就越(yue)好。我廠之玻璃(li)層在規定厚度(du)內,用直徑30mm,重量112g鋼球沖擊(ji)時,其沖擊(ji)功為282×10-3J(優等品指標(biao)為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷反應(ying)釜(fu)適用于石油化(hua)工、橡膠、農藥、染(ran)料、醫藥等(deng)行業(ye),用以完(wan)成磺化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚(ju)合(he)、縮(suo)合(he)等(deng)工藝(yi)過(guo)程。
搪瓷反(fan)應(ying)釜工作(zuo)溫(wen)度較高,通(tong)常化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)需(xu)要在一定的溫(wen)度條件下(xia)才能進行,所以反(fan)應(ying)釜既承受壓力又承受溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方法(fa)通(tong)常有以下(xia)幾種:
1、水加溫
要求溫度不高(gao)(gao)時(shi)可采用,其加熱(re)(re)系統有(you)(you)敞(chang)開(kai)式(shi)和密(mi)閉式(shi)兩種。敞(chang)開(kai)式(shi)較簡單,它由循環泵、水(shui)槽、管道及控制閥(fa)門的調節器(qi)所組成(cheng),當采用高(gao)(gao)壓水(shui)時(shi),設備機械(xie)強度要求高(gao)(gao),反應釜外表(biao)面焊(han)上蛇管,蛇管與釜壁有(you)(you)間隙,使熱(re)(re)阻增(zeng)加,傳(chuan)熱(re)(re)效果降低。
2、蒸汽加熱
加熱(re)溫度(du)在100℃以下(xia)時,可用一個(ge)大氣壓以下(xia)的蒸汽來加熱(re);100~180℃范圍(wei)內,用飽(bao)和蒸汽;當溫度(du)更高時,可采用高壓過(guo)熱(re)蒸汽。
3、用其它介質加熱
若工藝要求必須在高溫(wen)下操作或欲避免(mian)采用(yong)(yong)高壓的加熱系統(tong)時,可用(yong)(yong)其它介質來代替水和蒸汽,如礦物油(275~300℃)、聯(lian)苯醚混合劑(沸點258℃)、熔(rong)鹽(140~540℃)、液態鉛(qian)(熔(rong)點327℃)等。
4、電加熱
將電阻絲纏繞在反(fan)應釜(fu)筒體的絕緣層上,或安裝(zhuang)在離(li)反(fan)應釜(fu)若干距離(li)的特設絕緣體上,因此,在電阻絲與反(fan)應釜(fu)體之間形(xing)成了不大的空間間隙(xi)。
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