搪玻璃反應罐是將(jiang)含高二氧(yang)化硅的玻(bo)璃，襯在(zai)鋼制容器的內表(biao)面(mian)，經(jing)高溫灼燒而牢固地(di)密著(zhu)于金(jin)屬表(biao)面(mian)上(shang)成為復(fu)合材(cai)料制品。所(suo)以(yi)，是一種優良的耐腐(fu)蝕設備。

搪玻璃反應罐技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對(dui)各種有機酸、無機酸、有機溶(rong)劑均有較好的抗蝕性(xing)。如(ru)將(jiang)我廠生產的搪玻璃試樣(yang)置于20%HCI溶(rong)液(ye)中(zhong)煮(zhu)沸48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻(bo)璃對堿性溶液抗(kang)蝕(shi)(shi)性較(jiao)酸溶液差(cha)。但將我廠搪(tang)玻(bo)璃試(shi)樣置于(yu)1N氫氧(yang)化鈉溶液腐蝕(shi)(shi)，試(shi)驗溫(wen)度80℃時間48h。腐蝕(shi)(shi)速(su)率(lv)為(wei)6.76g/m2.d（優(you)等品(pin)指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用溫度(du)為0－200℃，耐溫急變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的瓷(ci)層厚(hou)度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃(li)反應釜附件的瓷(ci)層厚(hou)度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)(bo)璃(li)具(ju)有良好的絕(jue)緣性，當搪玻(bo)(bo)璃(li)在規定厚度內用20KV高(gao)頻電(dian)火花檢查瓷層時，高(gao)頻電(dian)火花不(bu)能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪(tang)玻璃(li)(li)反應(ying)罐的玻璃(li)(li)層(ceng)內應(ying)力(li)越小，彈(dan)性越好，硬度越大(da)，抗彎抗壓強度越高，則(ze)耐(nai)沖(chong)擊(ji)就(jiu)越好。我廠之玻璃(li)(li)層(ceng)在規定厚(hou)度內，用直徑30mm，重量(liang)112g鋼球(qiu)沖(chong)擊(ji)時，其沖(chong)擊(ji)功為282×10-3J（優等(deng)品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷(ci)反應釜(fu)適(shi)用于石油化工、橡(xiang)膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業，用以完成磺化、硝化、氫化、烴化、聚合、縮(suo)合等工藝過程。

搪瓷反(fan)應釜工(gong)作溫(wen)度較高，通常化學反(fan)應需要(yao)在一定的溫(wen)度條件下才能進行，所以(yi)反(fan)應釜既承受壓(ya)力又承受溫(wen)度。獲(huo)得(de)高溫(wen)的方法通常有(you)以(yi)下幾種：

1、水加溫

要求溫度(du)不(bu)高時(shi)可采(cai)用(yong)，其加熱(re)系統有敞(chang)(chang)開(kai)(kai)式(shi)(shi)和密閉式(shi)(shi)兩(liang)種。敞(chang)(chang)開(kai)(kai)式(shi)(shi)較簡單，它由循環泵(beng)、水(shui)槽、管道及(ji)控制閥門的調節器所組成(cheng)，當采(cai)用(yong)高壓水(shui)時(shi)，設備機械強度(du)要求高，反應釜外表面(mian)焊上蛇管，蛇管與釜壁有間隙，使熱(re)阻增加，傳熱(re)效果(guo)降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱溫度(du)在100℃以下(xia)時(shi)，可用(yong)一個(ge)大氣壓以下(xia)的蒸汽來加(jia)熱；100~180℃范圍內(nei)，用(yong)飽和(he)蒸汽；當溫度(du)更高時(shi)，可采用(yong)高壓過熱蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要(yao)求必(bi)須在(zai)高(gao)(gao)溫下操作或欲(yu)避免采用高(gao)(gao)壓的加(jia)熱系(xi)統(tong)時，可(ke)用其它介質(zhi)來代替(ti)水和蒸汽，如礦物(wu)油（275～300℃）、聯苯醚混(hun)合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等(deng)。

4、電加熱

將電阻絲纏(chan)繞在反應釜筒體(ti)的絕緣層(ceng)上(shang)，或(huo)安裝在離(li)反應釜若干距離(li)的特設絕緣體(ti)上(shang)，因此(ci)，在電阻絲與反應釜體(ti)之間形(xing)成(cheng)了(le)不大的空間間隙。

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