搪瓷反應釜是將(jiang)含高二(er)氧化硅的(de)玻璃(li)，襯在(zai)鋼制容器的(de)內表面(mian)(mian)，經(jing)高溫灼燒而牢(lao)固地密著(zhu)于金屬表面(mian)(mian)上成為復合(he)材料(liao)制品(pin)。所以，是一種優良的(de)耐(nai)腐蝕設備。

搪(tang)瓷反應釜(fu)技術(shu)規范：

1、耐酸性：

對各種有機(ji)酸、無機(ji)酸、有機(ji)溶(rong)劑(ji)均(jun)有較好的抗(kang)蝕性。如(ru)將我廠生(sheng)產的搪玻璃試樣置于20%HCI溶(rong)液中煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)(li)對堿性(xing)溶(rong)液(ye)(ye)抗(kang)蝕(shi)(shi)性(xing)較酸(suan)溶(rong)液(ye)(ye)差。但將我廠(chang)搪玻璃(li)(li)試樣置于1N氫氧化鈉(na)溶(rong)液(ye)(ye)腐蝕(shi)(shi)，試驗溫(wen)度80℃時間48h。腐蝕(shi)(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指(zhi)標(biao)為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用溫度為0－200℃，耐溫急變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷反(fan)應釜(fu)的(de)瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)應釜(fu)附件(jian)的(de)瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃(li)具(ju)有良好的絕(jue)緣性，當搪玻(bo)璃(li)在規定厚度(du)內用20KV高(gao)頻電火花檢查瓷(ci)層(ceng)時，高(gao)頻電火花不(bu)能擊穿瓷(ci)層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反應(ying)釜的玻(bo)璃層內應(ying)力越(yue)(yue)小，彈性越(yue)(yue)好(hao)(hao)，硬度越(yue)(yue)大(da)，抗彎抗壓強(qiang)度越(yue)(yue)高，則耐沖擊(ji)就越(yue)(yue)好(hao)(hao)。我廠之玻(bo)璃層在規定厚度內，用直徑30mm，重(zhong)量112g鋼球沖擊(ji)時(shi)，其沖擊(ji)功為(wei)282×10-3J（優等品指標為(wei)260×10-3J）。

搪(tang)瓷反應(ying)釜應(ying)用領域：

搪瓷反(fan)應釜(fu)適用于石油化(hua)(hua)工、橡膠、農(nong)藥、染料、醫(yi)藥等(deng)行(xing)業，用以完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合、縮合等(deng)工藝過程。

搪瓷(ci)反應(ying)釜工作溫度較高，通常(chang)化學反應(ying)需要在(zai)一定的(de)溫度條(tiao)件下(xia)才(cai)能進行(xing)，所以反應(ying)釜既承受壓力又承受溫度。獲得高溫的(de)方法通常(chang)有以下(xia)幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時(shi)可采(cai)用，其加熱系統有敞開式和密閉式兩種(zhong)。敞開式較簡單，它由循環泵、水(shui)槽、管道及控制閥(fa)門的調節器所(suo)組成，當采(cai)用高壓水(shui)時(shi)，設備機械強度要求高，反(fan)應釜外表(biao)面焊上(shang)蛇管，蛇管與釜壁有間隙(xi)，使(shi)熱阻增加，傳熱效果(guo)降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫度在100℃以下時(shi)，可用(yong)(yong)一個大(da)氣(qi)壓以下的蒸汽來加(jia)熱(re)；100~180℃范圍內，用(yong)(yong)飽和蒸汽；當溫度更高(gao)時(shi)，可采用(yong)(yong)高(gao)壓過熱(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要求必須(xu)在高溫下操作或欲避免(mian)采用高壓的加熱系統時，可用其(qi)它介質(zhi)來代替(ti)水和(he)蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯(ben)醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽(yan)（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲(si)纏繞在反應(ying)釜筒體(ti)的絕(jue)緣(yuan)層上(shang)，或安裝在離反應(ying)釜若干距(ju)離的特設絕(jue)緣(yuan)體(ti)上(shang)，因(yin)此(ci)，在電阻絲(si)與反應(ying)釜體(ti)之間形成了不大的空間間隙(xi)。

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