山東搪聯化工設備有(you)限公(gong)司
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工廠地址:淄博市淄川區董瓦村
搪瓷反應釜是(shi)將含高(gao)(gao)二氧化硅的玻璃,襯在鋼制容器的內表(biao)面,經高(gao)(gao)溫灼燒而牢固(gu)地密著于金屬表(biao)面上成(cheng)為(wei)復合材料制品。所以(yi),是(shi)一種(zhong)優良的耐腐蝕設(she)備(bei)。
搪(tang)瓷反應釜技術規(gui)范:
1、耐酸性:
對(dui)各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的抗蝕性。如將我廠(chang)生產(chan)的搪玻璃(li)試樣(yang)置于20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h,腐蝕速(su)率為0.9lg/m2.d(優等(deng)品(pin)指標為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪(tang)玻璃對堿性(xing)溶液抗蝕(shi)性(xing)較酸溶液差。但將我廠(chang)搪(tang)玻璃試樣置于1N氫氧化鈉溶液腐(fu)蝕(shi),試驗溫度80℃時間(jian)48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d(優等品指標為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0-200℃,耐溫急(ji)變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
搪瓷反應釜(fu)(fu)的瓷層厚度0.8-2.0mm,搪玻(bo)璃反應釜(fu)(fu)附件的瓷層厚度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻璃(li)具(ju)有良(liang)好的絕緣性,當搪玻璃(li)在規(gui)定厚度內用(yong)20KV高頻(pin)電(dian)火(huo)花(hua)檢查瓷層(ceng)時,高頻(pin)電(dian)火(huo)花(hua)不能擊穿(chuan)瓷層(ceng)。
6、耐沖擊性:
搪玻璃(li)(li)反(fan)應(ying)釜的玻璃(li)(li)層內(nei)應(ying)力(li)越小,彈性越好(hao),硬度(du)越大,抗(kang)彎抗(kang)壓強度(du)越高(gao),則耐沖擊(ji)就越好(hao)。我廠之玻璃(li)(li)層在規定厚度(du)內(nei),用直(zhi)徑30mm,重量112g鋼球沖擊(ji)時,其沖擊(ji)功為282×10-3J(優等品指標為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域(yu):
搪瓷(ci)反應釜適用于(yu)石油化(hua)工、橡膠、農藥、染(ran)料、醫藥等行業(ye),用以完(wan)成磺(huang)化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合(he)、縮(suo)合(he)等工藝過程。
搪(tang)瓷反(fan)應釜工作溫(wen)度(du)較高,通常化(hua)學反(fan)應需要在一定的溫(wen)度(du)條件下才能進(jin)行,所以(yi)反(fan)應釜既(ji)承受(shou)壓(ya)力又承受(shou)溫(wen)度(du)。獲得高溫(wen)的方法通常有以(yi)下幾種:
1、水加溫
要(yao)(yao)求溫度(du)不高時可采(cai)用,其加(jia)熱系統有(you)(you)敞(chang)開式(shi)和密閉(bi)式(shi)兩種。敞(chang)開式(shi)較簡(jian)單,它(ta)由(you)循環泵、水槽、管道及控制閥門(men)的調(diao)節(jie)器所組成,當采(cai)用高壓水時,設備(bei)機械強度(du)要(yao)(yao)求高,反(fan)應釜外表面焊上蛇(she)管,蛇(she)管與釜壁有(you)(you)間隙,使熱阻增加(jia),傳(chuan)熱效果降低。
2、蒸汽加熱
加熱溫(wen)度(du)(du)在100℃以(yi)下時(shi),可用(yong)一個大氣(qi)壓以(yi)下的蒸汽來加熱;100~180℃范圍內,用(yong)飽和蒸汽;當溫(wen)度(du)(du)更高時(shi),可采(cai)用(yong)高壓過熱蒸汽。
3、用其它介質加熱
若工藝要求必須在高溫下(xia)操作或(huo)欲避(bi)免采(cai)用高壓的(de)加熱系統時(shi),可用其它介質來代(dai)替水和蒸汽,如(ru)礦物油(275~300℃)、聯苯醚混合劑(沸點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態鉛(熔點327℃)等。
4、電加熱
將電阻絲纏繞在反(fan)(fan)應(ying)釜(fu)筒體(ti)的(de)絕緣層上,或安裝在離(li)反(fan)(fan)應(ying)釜(fu)若干距(ju)離(li)的(de)特設絕緣體(ti)上,因此(ci),在電阻絲與反(fan)(fan)應(ying)釜(fu)體(ti)之間形成了不大的(de)空間間隙。
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