搪玻璃反應釜是將含高(gao)二氧(yang)化硅(gui)的(de)玻璃(li)，襯在鋼(gang)制容器的(de)內(nei)表面(mian)，經高(gao)溫灼燒而牢固地密著于金(jin)屬(shu)表面(mian)上成為復合材料制品。所以，是一種優良的(de)耐(nai)腐蝕設備(bei)。

搪玻璃反應(ying)釜(fu)技術規范：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶劑(ji)均有(you)較好的抗蝕性。如將我廠生(sheng)產的搪(tang)玻璃(li)試(shi)樣置于20%HCI溶液(ye)中煮沸48h，腐(fu)蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃(li)對堿(jian)性溶液(ye)抗蝕(shi)性較酸(suan)溶液(ye)差。但將我廠(chang)搪玻(bo)璃(li)試樣置(zhi)于1N氫氧化(hua)鈉溶液(ye)腐(fu)蝕(shi)，試驗溫(wen)度80℃時間48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪(tang)玻(bo)璃反應釜加熱和冷卻時，應緩慢(man)進行。我廠制造的(de)搪(tang)玻(bo)璃反應釜使用溫(wen)度(du)為(wei)0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的瓷層(ceng)厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜附件的瓷層(ceng)厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃具有良好的絕(jue)緣性，當搪(tang)玻璃在(zai)規定厚度內用20KV高(gao)頻電火花檢查瓷(ci)層時，高(gao)頻電火花不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)(bo)璃反應釜的玻(bo)(bo)璃層內應力越小，彈(dan)性越好(hao)，硬(ying)度(du)越大，抗彎抗壓強度(du)越高，則耐沖擊就(jiu)越好(hao)。我(wo)廠之玻(bo)(bo)璃層在(zai)規(gui)定厚度(du)內，用直(zhi)徑30mm，重量112g鋼球沖擊時，其沖擊功(gong)為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適用(yong)于石油化(hua)工、橡(xiang)膠、農藥、染料、醫藥等(deng)(deng)行業，用(yong)以完成(cheng)磺化(hua)、硝(xiao)化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮(suo)合等(deng)(deng)工藝過程。

搪瓷反(fan)(fan)應釜工作(zuo)溫(wen)度較高，通常化學反(fan)(fan)應需要(yao)在一定(ding)的溫(wen)度條件下才(cai)能進行，所以反(fan)(fan)應釜既(ji)承(cheng)(cheng)受(shou)壓力又(you)承(cheng)(cheng)受(shou)溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方法通常有(you)以下幾(ji)種：

1、水加溫

要求溫度不高時(shi)可采用，其(qi)加熱系統有敞開(kai)式和密閉式兩種。敞開(kai)式較(jiao)簡單，它由循(xun)環泵、水(shui)槽、管(guan)道(dao)及控制閥(fa)門的調節(jie)器所組成(cheng)，當采用高壓水(shui)時(shi)，設備機械強度要求高，反應(ying)釜外表面(mian)焊上(shang)蛇管(guan)，蛇管(guan)與(yu)釜壁有間隙(xi)，使(shi)熱阻增加，傳熱效果(guo)降低(di)。

2、蒸汽加熱

加(jia)(jia)熱溫(wen)度(du)(du)在100℃以下(xia)時(shi)，可用(yong)一(yi)個大氣壓以下(xia)的(de)蒸汽(qi)來加(jia)(jia)熱；100~180℃范圍(wei)內，用(yong)飽和蒸汽(qi)；當溫(wen)度(du)(du)更高時(shi)，可采用(yong)高壓過熱蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工(gong)藝要求必須在高溫下操作或欲(yu)避免(mian)采用高壓的(de)加熱系統時，可用其它(ta)介(jie)質來代替水(shui)和蒸(zheng)汽(qi)，如礦物油(you)（275～300℃）、聯苯醚混合(he)劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態(tai)鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)(zu)絲纏(chan)繞在反應(ying)釜筒體的絕緣層上，或安(an)裝在離(li)反應(ying)釜若干距離(li)的特設絕緣體上，因(yin)此(ci)，在電阻(zu)(zu)絲與反應(ying)釜體之(zhi)間形成了不大的空(kong)間間隙。

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