搪玻璃反應罐是將含(han)高二氧化硅的(de)玻(bo)璃，襯(chen)在(zai)鋼制(zhi)容器的(de)內表面，經高溫(wen)灼(zhuo)燒而牢固地密著于金屬表面上成為復合(he)材料制(zhi)品。所以(yi)，是一種優(you)良的(de)耐腐蝕設備(bei)。

搪玻璃反應罐技術(shu)規范：

1、耐酸性：

對(dui)各種有(you)機酸、無(wu)機酸、有(you)機溶(rong)劑均有(you)較好(hao)的抗蝕性。如將我廠生產的搪玻(bo)璃試樣(yang)置于20%HCI溶(rong)液中煮沸48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻(bo)璃對堿性溶(rong)液抗蝕性較酸溶(rong)液差。但(dan)將(jiang)我廠搪(tang)玻(bo)璃試樣置于1N氫氧化鈉溶(rong)液腐(fu)蝕，試驗溫度80℃時間(jian)48h。腐(fu)蝕速率為(wei)6.76g/m2.d（優等品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用(yong)溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反應釜附件的(de)瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)(bo)璃(li)(li)具有良(liang)好(hao)的絕緣性，當搪玻(bo)(bo)璃(li)(li)在規(gui)定厚度內用(yong)20KV高頻電火(huo)花檢(jian)查瓷(ci)層(ceng)時，高頻電火(huo)花不能擊穿瓷(ci)層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應罐的玻璃層(ceng)內應力(li)越(yue)小，彈(dan)性越(yue)好(hao)，硬度越(yue)大，抗彎抗壓強度越(yue)高，則耐沖擊(ji)就(jiu)越(yue)好(hao)。我廠之玻璃層(ceng)在規定厚度內，用直徑30mm，重量112g鋼(gang)球沖擊(ji)時(shi)，其沖擊(ji)功為282×10-3J（優等品指(zhi)標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適(shi)用(yong)于石(shi)油(you)化工、橡膠(jiao)、農(nong)藥(yao)、染料、醫(yi)藥(yao)等行業，用(yong)以完成磺化、硝化、氫(qing)化、烴化、聚合(he)(he)、縮合(he)(he)等工藝(yi)過(guo)程(cheng)。

搪瓷反應釜工作溫(wen)(wen)度較高，通(tong)(tong)常(chang)化(hua)學反應需要在一(yi)定的溫(wen)(wen)度條件下(xia)(xia)才(cai)能(neng)進行，所以(yi)反應釜既(ji)承受壓(ya)力(li)又承受溫(wen)(wen)度。獲(huo)得(de)高溫(wen)(wen)的方法通(tong)(tong)常(chang)有以(yi)下(xia)(xia)幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時可采用，其(qi)加熱(re)(re)系統有敞(chang)開式(shi)和密(mi)閉式(shi)兩種(zhong)。敞(chang)開式(shi)較簡單，它由(you)循環(huan)泵、水(shui)槽、管道及控制閥門的調節器所組成，當采用高壓(ya)水(shui)時，設備機械強度要求高，反應釜外表面焊上(shang)蛇管，蛇管與(yu)釜壁有間隙(xi)，使(shi)熱(re)(re)阻增加，傳熱(re)(re)效(xiao)果降(jiang)低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫(wen)度在100℃以(yi)下時，可(ke)用(yong)一個大氣壓(ya)(ya)以(yi)下的(de)蒸(zheng)汽來加(jia)熱(re)；100~180℃范(fan)圍內，用(yong)飽和蒸(zheng)汽；當(dang)溫(wen)度更高時，可(ke)采(cai)用(yong)高壓(ya)(ya)過熱(re)蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須(xu)在高溫下操作(zuo)或欲避(bi)免采用高壓(ya)的加熱系(xi)統時，可用其它介質(zhi)來代替(ti)水和(he)蒸汽，如礦(kuang)物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚(mi)混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電阻(zu)絲(si)纏繞在反應釜筒體(ti)的(de)絕(jue)緣層上(shang)，或安裝(zhuang)在離(li)(li)反應釜若干距離(li)(li)的(de)特(te)設絕(jue)緣體(ti)上(shang)，因(yin)此，在電阻(zu)絲(si)與反應釜體(ti)之(zhi)間形成了(le)不大的(de)空間間隙。

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