搪玻璃反應釜是將含(han)高二氧(yang)化硅的玻璃，襯在鋼制(zhi)容器的內表面(mian)，經高溫灼燒而牢固(gu)地密著于金屬(shu)表面(mian)上成為(wei)復合材料制(zhi)品(pin)。所(suo)以，是一種優良的耐腐蝕設備。

搪玻璃反應釜技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶(rong)劑均(jun)有(you)較好的抗(kang)蝕性(xing)。如將我(wo)廠(chang)生產(chan)的搪(tang)玻璃試樣置于20%HCI溶(rong)液中煮沸48h，腐蝕速率(lv)為0.9lg/m2.d（優(you)等品(pin)指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃對(dui)堿性溶液抗蝕(shi)性較酸溶液差。但將我廠搪玻璃試樣置于1N氫氧化鈉(na)溶液腐蝕(shi)，試驗溫(wen)度80℃時間(jian)48h。腐蝕(shi)速(su)率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪(tang)玻璃(li)反應釜加(jia)熱(re)和冷(leng)卻時，應緩慢(man)進行。我廠(chang)制造的(de)搪(tang)玻璃(li)反應釜使用(yong)溫度為(wei)0－200℃，耐溫急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應釜的瓷層(ceng)厚(hou)度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反應(ying)釜(fu)附件的瓷層(ceng)厚(hou)度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具有良好(hao)的(de)絕(jue)緣(yuan)性，當搪玻璃(li)在規定厚度內用20KV高頻(pin)電(dian)火(huo)花檢查瓷層時，高頻(pin)電(dian)火(huo)花不能(neng)擊(ji)穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應釜的(de)玻璃層內(nei)應力越(yue)(yue)(yue)小，彈性越(yue)(yue)(yue)好，硬度(du)越(yue)(yue)(yue)大，抗彎抗壓強度(du)越(yue)(yue)(yue)高，則(ze)耐沖(chong)擊就越(yue)(yue)(yue)好。我廠之玻璃層在(zai)規定(ding)厚度(du)內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)擊時，其(qi)沖(chong)擊功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應釜適用于(yu)石油化(hua)工(gong)、橡(xiang)膠、農藥(yao)、染(ran)料、醫藥(yao)等行業(ye)，用以(yi)完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合(he)、縮合(he)等工(gong)藝(yi)過程。

搪(tang)瓷反應釜工作溫度(du)較高(gao)，通(tong)常化學反應需要在一(yi)定的(de)溫度(du)條件(jian)下才(cai)能進行，所以反應釜既承受(shou)壓力又承受(shou)溫度(du)。獲得高(gao)溫的(de)方法通(tong)常有以下幾種：

1、水加溫

要求溫度不高時(shi)可采用，其加熱(re)(re)系統(tong)有敞開(kai)式和密閉式兩種。敞開(kai)式較簡單，它由循(xun)環泵、水(shui)槽、管(guan)道及控制閥門(men)的調節器所組成(cheng)，當(dang)采用高壓(ya)水(shui)時(shi)，設備機械強度要求高，反應釜外表面焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜壁有間隙，使(shi)熱(re)(re)阻增(zeng)加，傳熱(re)(re)效果降低(di)。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫度(du)在100℃以下(xia)時(shi)，可用(yong)一個(ge)大氣(qi)壓(ya)以下(xia)的蒸(zheng)汽來加(jia)熱(re)；100~180℃范圍內，用(yong)飽和蒸(zheng)汽；當溫度(du)更高時(shi)，可采用(yong)高壓(ya)過熱(re)蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高溫下操(cao)作或(huo)欲避免采用高壓的(de)加(jia)熱系統時，可用其它介質來代替(ti)水和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚混(hun)合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲纏繞在反(fan)應(ying)釜(fu)筒體的(de)(de)絕(jue)緣層上(shang)，或安裝在離反(fan)應(ying)釜(fu)若干距離的(de)(de)特設絕(jue)緣體上(shang)，因此(ci)，在電阻絲與反(fan)應(ying)釜(fu)體之間形成了不大的(de)(de)空間間隙。

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