搪瓷反應釜是(shi)將含高二氧化硅的(de)玻璃(li)，襯在鋼(gang)制容器的(de)內表(biao)(biao)面，經高溫灼(zhuo)燒(shao)而牢固(gu)地密著于(yu)金屬表(biao)(biao)面上成為復合材料制品(pin)。所(suo)以(yi)，是(shi)一種優(you)良的(de)耐腐蝕設備。

搪瓷反應釜(fu)技(ji)術規范：

1、耐酸性：

對各種(zhong)有(you)機(ji)(ji)酸、無(wu)機(ji)(ji)酸、有(you)機(ji)(ji)溶劑(ji)均有(you)較好的抗蝕性。如將(jiang)我廠生產的搪玻璃試樣(yang)置于20%HCI溶液中煮沸(fei)48h，腐蝕速率為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對(dui)堿性溶液抗蝕(shi)性較(jiao)酸溶液差。但將我廠(chang)搪玻璃(li)試樣(yang)置于1N氫氧化鈉(na)溶液腐蝕(shi)，試驗(yan)溫度80℃時間48h。腐蝕(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標(biao)為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度(du)為0－200℃，耐溫急變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷反(fan)應釜的瓷層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻(bo)璃反(fan)應釜附件的瓷層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻(bo)璃具有(you)良好的(de)絕緣性，當搪(tang)玻(bo)璃在(zai)規定厚度(du)內用20KV高頻電(dian)火花(hua)檢(jian)查瓷層時，高頻電(dian)火花(hua)不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反應釜的玻(bo)璃層內應力越小，彈性(xing)越好(hao)，硬度(du)(du)越大，抗彎抗壓(ya)強(qiang)度(du)(du)越高(gao)，則耐沖(chong)擊就越好(hao)。我(wo)廠之(zhi)玻(bo)璃層在(zai)規定厚度(du)(du)內，用直徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功為282×10-3J（優(you)等品指(zhi)標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷反應釜適用于(yu)石油化(hua)工、橡膠、農藥、染(ran)料、醫藥等行業，用以完成(cheng)磺(huang)化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚(ju)合、縮合等工藝過(guo)程。

搪瓷反(fan)(fan)應(ying)(ying)釜工作溫(wen)度較高(gao)(gao)，通常化學反(fan)(fan)應(ying)(ying)需要在一定的溫(wen)度條(tiao)件下才(cai)能(neng)進行，所以反(fan)(fan)應(ying)(ying)釜既承受(shou)(shou)壓(ya)力(li)又承受(shou)(shou)溫(wen)度。獲得高(gao)(gao)溫(wen)的方法通常有以下幾(ji)種(zhong)：

1、水加溫

要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)溫度(du)不高時可采(cai)用(yong)，其加(jia)熱(re)系統有(you)敞開(kai)式和密閉式兩種(zhong)。敞開(kai)式較簡單，它由(you)循環(huan)泵(beng)、水槽、管道及控制閥門的調節器(qi)所組成，當采(cai)用(yong)高壓水時，設備機械強度(du)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)高，反應釜外表面焊上蛇(she)管，蛇(she)管與(yu)釜壁有(you)間隙，使熱(re)阻增加(jia)，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以下(xia)時，可用(yong)一個大氣壓以下(xia)的蒸(zheng)汽(qi)來加熱；100~180℃范圍內，用(yong)飽(bao)和蒸(zheng)汽(qi)；當溫度更高時，可采用(yong)高壓過熱蒸(zheng)汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須(xu)在高(gao)溫下操作或欲避免采用(yong)高(gao)壓的(de)加熱系統時(shi)，可用(yong)其它介質來代替水和(he)蒸汽，如礦物油(you)（275～300℃）、聯苯醚混合劑(ji)（沸點(dian)258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態鉛（熔(rong)點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)絲纏繞在(zai)反應釜筒體(ti)的(de)(de)絕緣層(ceng)上(shang)，或(huo)安裝在(zai)離反應釜若干距離的(de)(de)特設絕緣體(ti)上(shang)，因(yin)此，在(zai)電阻(zu)絲與反應釜體(ti)之間形成了不大的(de)(de)空間間隙(xi)。

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